| 致谢 | 第4-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 一 引言 | 第13-25页 |
| 1.1 受控惯性约束核聚变 | 第13-15页 |
| 1.2 激光参数测量系统 | 第15-20页 |
| 1.2.1 美国NIF激光参数测量系统 | 第16-19页 |
| 1.2.2 我国高功率激光装置参数测量系统 | 第19-20页 |
| 1.3 激光参数测量高精度低畸变的取样分光技术 | 第20-21页 |
| 1.4 光学薄膜元件在激光参数测量系统中的应用 | 第21-22页 |
| 1.5 论文研究的主要内容、目的意义及论文的章节安排 | 第22-25页 |
| 1.5.1 论文研究的主要内容及其目的意义 | 第22-23页 |
| 1.5.2 论文章节安排 | 第23-25页 |
| 二 激光参数测量原理和广义衍射理论 | 第25-31页 |
| 2.1 激光参数测量原理 | 第25-27页 |
| 2.1.1 激光近场分布测量原理 | 第25-26页 |
| 2.1.2 激光能量测量原理 | 第26-27页 |
| 2.1.3 远场焦斑形态测量原理 | 第27页 |
| 2.2 广义衍射理论 | 第27-31页 |
| 三 取样分光用光学薄膜的光学特性分析 | 第31-49页 |
| 3.1 增透膜 | 第31-36页 |
| 3.1.1 基频增透膜 | 第31-34页 |
| 3.1.2 三波长增透膜 | 第34-36页 |
| 3.2 高反膜 | 第36-37页 |
| 3.2.1 基频高反膜 | 第36-37页 |
| 3.2.2 三波长高反膜 | 第37页 |
| 3.3 分光膜 | 第37-46页 |
| 3.3.1 基频分光膜 | 第38-43页 |
| 3.3.2 三波长分光膜 | 第43-46页 |
| 3.4 结论 | 第46-49页 |
| 四 取样分光用光学元件表面“缺陷”对光束强度的调制 | 第49-69页 |
| 4.1 光学元件表面“缺陷”数学模型 | 第49-50页 |
| 4.2 调制光束传输模型及近场均匀性评价函数 | 第50-51页 |
| 4.3 振幅调制型“缺陷”对光束强度分布的调制 | 第51-59页 |
| 4.3.1 振幅调制型“缺陷”模型建立 | 第51-52页 |
| 4.3.2 数值仿真与分析 | 第52-59页 |
| 4.3.2.1 光学元件表面只有一个振幅调制“缺陷” | 第52-56页 |
| 4.3.2.2 光学元件表面多个振幅调制“缺陷” | 第56-59页 |
| 4.4 相位调制型“缺陷”对光束光强分布的调制 | 第59-67页 |
| 4.4.1 相位调制型“缺陷”模型建立 | 第60页 |
| 4.4.2 数值仿真与分析 | 第60-67页 |
| 4.4.2.1 光学元件表面有单条划痕 | 第60-63页 |
| 4.4.2.2 光学元件表面有两条不同相对位置的划痕 | 第63-67页 |
| 4.5 结论 | 第67-69页 |
| 五 总结与展望 | 第69-71页 |
| 5.1 论文工作总结 | 第69-70页 |
| 5.2 论文存在的不足与展望 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-75页 |
| 作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第75页 |
