摘要 | 第9-10页 |
ABSTRACT | 第10页 |
第一章 绪论 | 第11-18页 |
1.1 研究背景和意义 | 第11-12页 |
1.1.1 研究背景 | 第11-12页 |
1.1.2 课题意义 | 第12页 |
1.2 国外高SERS增强纳米结构阵列研究综述 | 第12-15页 |
1.3 国内高SERS增强纳米结构阵列研究综述 | 第15-17页 |
1.4 论文主要研究内容 | 第17-18页 |
第二章 表面等离激元与表面增强拉曼散射效应理论概述 | 第18-28页 |
2.1 表面等离激元的理论基础 | 第18-23页 |
2.1.1 金属自由电子的Drude模型 | 第18-19页 |
2.1.2 表面等离激元的电磁场衰减特性 | 第19-21页 |
2.1.3 局域表面等离激元 | 第21-23页 |
2.2 表面增强拉曼散射效应理论概述 | 第23-27页 |
2.2.1 拉曼光谱的理论基础 | 第23-25页 |
2.2.2 表面增强拉曼散射效应概述 | 第25页 |
2.2.3 表面增强拉曼散射效应的增强机理 | 第25-27页 |
2.3 本章小结 | 第27-28页 |
第三章 银三角锥纳米结构阵列的工艺制备与SERS增强分析 | 第28-44页 |
3.1 纳米球光刻技术 | 第28-32页 |
3.1.1 PS球溶液的配制 | 第28-29页 |
3.1.2 硅片的清洗与亲水化处理 | 第29页 |
3.1.3 旋涂单层六方排列PS球 | 第29-30页 |
3.1.4 ICP氧刻蚀工艺 | 第30-31页 |
3.1.5 金属蒸镀工艺 | 第31-32页 |
3.1.6 PS球去除工艺 | 第32页 |
3.2 银三角锥纳米结构阵列的工艺制备 | 第32-34页 |
3.2.1 银三角锥纳米阵列的工艺流程 | 第33页 |
3.2.2 银三角锥纳米结构阵列的形成机理 | 第33-34页 |
3.3 银三角锥纳米结构阵列的FDTD建模仿真 | 第34-39页 |
3.3.1 时域有限差分算法简介 | 第34-37页 |
3.3.2 银三角锥纳米结构阵列的FDTD建模 | 第37页 |
3.3.3 银三角锥纳米结构阵列的电磁学仿真与结果分析 | 第37-39页 |
3.4 银三角锥纳米结构阵列的SERS增强研究 | 第39-42页 |
3.4.1 拉曼实验原理简介 | 第39-40页 |
3.4.2 银三角锥纳米结构阵列的拉曼测试与SERS性能分析 | 第40-42页 |
3.4.3 结果分析与讨论 | 第42页 |
3.5 本章小结 | 第42-44页 |
第四章 金箭头状纳米结构阵列的工艺制备与SERS增强分析 | 第44-52页 |
4.1 金箭头状纳米结构阵列的工艺制备 | 第44-46页 |
4.1.1 金箭头状纳米结构阵列的工艺流程 | 第44-45页 |
4.1.2 金箭头状纳米结构阵列的形成机理 | 第45-46页 |
4.2 金箭头状纳米结构阵列的FDTD建模仿真 | 第46-49页 |
4.2.1 金箭头状纳米结构阵列的FDTD建模 | 第46-47页 |
4.2.2 金箭头状纳米结构阵列的电磁学仿真与结果分析 | 第47-49页 |
4.3 金箭头状纳米结构阵列的SERS增强研究 | 第49-51页 |
4.3.1 金箭头状纳米结构阵列的拉曼测试与SERS性能分析 | 第49-51页 |
4.3.2 结果分析与讨论 | 第51页 |
4.4 本章小结 | 第51-52页 |
第五章 金鳞状纳米球间隙阵列的工艺制备与SERS增强分析 | 第52-60页 |
5.1 金鳞状纳米球间隙阵列的工艺制备 | 第52-54页 |
5.1.1 金鳞状纳米球间隙阵列的工艺流程 | 第52-53页 |
5.1.2 金鳞状纳米球间隙阵列的形成机理 | 第53-54页 |
5.2 金鳞状纳米球间隙阵列的FDTD建模仿真 | 第54-57页 |
5.2.1 金鳞状纳米球间隙阵列的FDTD建模 | 第54-55页 |
5.2.2 金鳞状纳米球间隙阵列的电磁学仿真与结果分析 | 第55-57页 |
5.3 金鳞状纳米球间隙阵列的SERS增强研究 | 第57-58页 |
5.3.1 金鳞状纳米球间隙阵列的拉曼测试与SERS性能分析 | 第57-58页 |
5.3.2 结果分析与讨论 | 第58页 |
5.4 本章小结 | 第58-60页 |
第六章 总结与展望 | 第60-63页 |
6.1 主要工作 | 第60-61页 |
6.2 研究展望 | 第61-63页 |
致谢 | 第63-64页 |
参考文献 | 第64-68页 |
作者在学期间取得的学术成果 | 第68页 |