| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第9-16页 |
| 1.1 课题来源及研究背景 | 第9-10页 |
| 1.1.1 课题来源 | 第9页 |
| 1.1.2 课题研究背景 | 第9-10页 |
| 1.2 医用钛合金的研究历史及进展 | 第10页 |
| 1.3 微弧氧化技术 | 第10-13页 |
| 1.3.1 微弧氧化技术发展历史及现状 | 第10-11页 |
| 1.3.2 微弧氧化技术简介 | 第11-13页 |
| 1.4 钛合金微弧氧化技术的发展及存在的问题 | 第13-14页 |
| 1.4.1 钛合金微弧氧化技术的发展 | 第13页 |
| 1.4.2 钛合金微弧氧化技术存在的问题 | 第13-14页 |
| 1.5 本文主要研究内容及目的 | 第14-16页 |
| 第二章 医用钛合金微弧氧化膜层试验设计 | 第16-23页 |
| 2.1 引言 | 第16页 |
| 2.2 微弧氧化膜层试验准备 | 第16-18页 |
| 2.2.1 试验材料 | 第16页 |
| 2.2.2 试验设备 | 第16-18页 |
| 2.3 微弧氧化试验过程 | 第18-20页 |
| 2.3.1 微弧氧化试验流程 | 第18页 |
| 2.3.2 试验分析方法 | 第18-19页 |
| 2.3.3 试验方法的优化 | 第19-20页 |
| 2.4 电解液浓度对微弧氧化膜层性能的影响 | 第20-22页 |
| 2.5 本章小结 | 第22-23页 |
| 第三章 医用钛合金微弧氧化膜层的制备 | 第23-37页 |
| 3.1 引言 | 第23页 |
| 3.2 微弧氧化膜层制备工艺的研究 | 第23-33页 |
| 3.2.1 电压对微弧氧化膜层性能的影响 | 第23-25页 |
| 3.2.2 电流密度对微弧氧化膜层性能的影响 | 第25-27页 |
| 3.2.3 微弧氧化时间对微弧氧化膜层性能的影响 | 第27-29页 |
| 3.2.4 脉冲频率对微弧氧化膜层性能的影响 | 第29-31页 |
| 3.2.5 占空比对微弧氧化膜层性能的影响 | 第31-33页 |
| 3.3 微弧氧化膜电参数优化分析 | 第33-35页 |
| 3.3.1 正交试验原理 | 第33页 |
| 3.3.2 电参数的正交试验及结果分析 | 第33-35页 |
| 3.4 本章小结 | 第35-37页 |
| 第四章 混合添加剂对微弧氧化膜层生长影响的研究 | 第37-50页 |
| 4.1 引言 | 第37页 |
| 4.2 不同添加剂对微弧氧化膜层性能的影响 | 第37-46页 |
| 4.2.1 单一非纳米粒子添加对微弧氧化膜层的影响 | 第37-41页 |
| 4.2.2 单一纳米粒子添加对微弧氧化膜层的影响 | 第41-46页 |
| 4.3 添加剂的混合组合试验及混合正交试验研究 | 第46-49页 |
| 4.3.1 添加剂的混合组合试验及结果分析 | 第46-47页 |
| 4.3.2 添加剂的混合正交试验及结果分析 | 第47-49页 |
| 4.4 本章小结 | 第49-50页 |
| 第五章 微弧氧化膜层机械性能及生物学性能分析 | 第50-64页 |
| 5.1 引言 | 第50页 |
| 5.2 微弧氧化膜层机械性能的评价 | 第50-56页 |
| 5.2.1 微弧氧化膜层结合强度的评价 | 第50-52页 |
| 5.2.2 微弧氧化膜层粗糙度的评价 | 第52-53页 |
| 5.2.3 微弧氧化膜层摩擦系数的评价 | 第53-55页 |
| 5.2.4 微弧氧化膜层阻抗值的评价 | 第55-56页 |
| 5.3 微弧氧化膜层生物性能的评价 | 第56-62页 |
| 5.3.1 试验材料和试验方法 | 第56-57页 |
| 5.3.2 生物活性试验的评价 | 第57-62页 |
| 5.4 本章小结 | 第62-64页 |
| 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 致谢 | 第69页 |