| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 引言 | 第10-11页 |
| 1 文献综述 | 第11-31页 |
| ·自组装技术简介 | 第11页 |
| ·自组装技术的发展历程 | 第11-12页 |
| ·自组装膜的结构、形成机理及特点 | 第12-14页 |
| ·自组装膜的影响因素 | 第14-17页 |
| ·基底表面性质的影响 | 第14-15页 |
| ·分子结构的影响 | 第15页 |
| ·表面预处理的影响 | 第15-16页 |
| ·溶剂的影响 | 第16页 |
| ·组装时间的影响 | 第16-17页 |
| ·自组装膜种类及在金属防护方面应用 | 第17-25页 |
| ·烷基硫醇类SAMs | 第17-19页 |
| ·脂肪酸类SAMs | 第19-21页 |
| ·硅烷类SAMs | 第21-22页 |
| ·膦酸类SAMs | 第22-24页 |
| ·其他SAMs体系 | 第24-25页 |
| ·自组装膜结构和性能的表征 | 第25-30页 |
| ·电化学方法 | 第25-26页 |
| ·电镜方法 | 第26-28页 |
| ·谱学方法 | 第28-29页 |
| ·其它表征技术 | 第29-30页 |
| ·量子化学计算 | 第30页 |
| ·本文的研究内容和意义 | 第30-31页 |
| 2 实验方法 | 第31-34页 |
| ·试剂和电解质溶液 | 第31页 |
| ·所用试剂 | 第31页 |
| ·电解质溶液 | 第31页 |
| ·铜电极的制备 | 第31页 |
| ·硬脂酸自组装膜的制备 | 第31-32页 |
| ·表面结构表征方法 | 第32-33页 |
| ·扫描电子显微镜测试(SEM)和能量射散型X射线谱(EDS) | 第32页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第32页 |
| ·傅立叶变换红外光谱(FT-IR) | 第32页 |
| ·接触角测试 | 第32页 |
| ·电化学检测 | 第32-33页 |
| ·实验方案 | 第33-34页 |
| ·铜表面硬脂酸SAM的自组装 | 第33页 |
| ·铜表面油酸SAM的自组装 | 第33-34页 |
| 3 铜表面硬脂酸自组装膜的制备与性能研究 | 第34-53页 |
| ·表面预处理后铜表面形貌和成分分析 | 第34-36页 |
| ·硬脂酸浓度对自组装膜的影响 | 第36-42页 |
| ·交流阻抗测试结果 | 第36-40页 |
| ·Tafel极化曲线测试结果 | 第40-42页 |
| ·自组装时间对自组装膜的影响 | 第42-46页 |
| ·交流阻抗测试结果 | 第42-44页 |
| ·Tafel极化曲线测试结果 | 第44-46页 |
| ·循环伏安法测试结果 | 第46-47页 |
| ·CuO/Cu(OH)_2电极表面硬脂酸自组装膜的表征 | 第47-51页 |
| ·硬脂酸自组装膜的FT-IR | 第47-50页 |
| ·接触角 | 第50-51页 |
| ·硬脂酸在铜表面的自组装机理 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 4 铜表面油酸自组装膜的制备与性能研究 | 第53-65页 |
| ·油酸浓度对自组装膜的影响 | 第53-57页 |
| ·交流阻抗测试结果 | 第53-55页 |
| ·Tafel极化曲线测试结果 | 第55-57页 |
| ·自组装时间对自组装膜的影响 | 第57-60页 |
| ·交流阻抗测试结果 | 第57-58页 |
| ·Tafel极化曲线测试结果 | 第58-60页 |
| ·循环伏安法测试结果 | 第60-61页 |
| ·铜表面油酸自组装膜的表征 | 第61-64页 |
| ·铜表面油酸自组装膜的反射FT-IR | 第61-63页 |
| ·接触角 | 第63-64页 |
| ·油酸在CuO/Cu(OH)_2电极表面的自组装机理 | 第64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 5 硬脂酸和油酸分子量子化学计算 | 第65-71页 |
| ·计算方法 | 第65页 |
| ·结果与讨论 | 第65-70页 |
| ·硬脂酸和油酸分子的最优化构型 | 第65-66页 |
| ·前线轨道及全局反应活性分析 | 第66-68页 |
| ·局部反应活性分析 | 第68-70页 |
| ·本章小结 | 第70-71页 |
| 6 结论和设想 | 第71-72页 |
| ·结论 | 第71页 |
| ·存在的问题和今后研究工作的设想 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-78页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
