| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 引言 | 第10-11页 |
| 1 文献综述 | 第11-28页 |
| ·纳米材料简介 | 第11-14页 |
| ·纳米材料概述 | 第11页 |
| ·纳米材料发展史 | 第11-12页 |
| ·纳米材料的特异效应 | 第12-14页 |
| ·一维纳米材料的制备 | 第14-17页 |
| ·气相法 | 第14-15页 |
| ·液相法 | 第15页 |
| ·模板法 | 第15-17页 |
| ·多孔阳极氧化铝模板的制备 | 第17-22页 |
| ·AAO膜的研究进展 | 第17-18页 |
| ·AAO膜的形成机理 | 第18-20页 |
| ·AAO膜的制备工艺 | 第20-22页 |
| ·AAO膜的影响因素 | 第22页 |
| ·AAO模板法电沉积纳米线 | 第22-25页 |
| ·直流电沉积 | 第22-23页 |
| ·脉冲电沉积 | 第23页 |
| ·交流电沉积 | 第23-24页 |
| ·交流电沉积法的影响因素 | 第24-25页 |
| ·电沉积纳米线的应用 | 第25-26页 |
| ·磁性纳米器件 | 第25页 |
| ·纳米传感器 | 第25-26页 |
| ·光电器件 | 第26页 |
| ·纳米微电极 | 第26页 |
| ·选题的意义和研究内容 | 第26-28页 |
| 2 阳极氧化铝膜的制备与研究 | 第28-43页 |
| ·实验部分 | 第28-31页 |
| ·实验试剂与材料 | 第28页 |
| ·实验仪器 | 第28-29页 |
| ·实验装置 | 第29页 |
| ·实验方法 | 第29-30页 |
| ·实验表征 | 第30-31页 |
| ·结果与讨论 | 第31-41页 |
| ·未抛光铝片的表面形貌表征 | 第31页 |
| ·不同配方化学抛光液的抛光效果比较 | 第31-36页 |
| ·阳极氧化电流密度随时间的变化规律 | 第36-37页 |
| ·阶梯降压过程理论的探讨 | 第37-38页 |
| ·AAO膜的SEM表征 | 第38-41页 |
| ·AAO膜的XRD表征 | 第41页 |
| ·小结 | 第41-43页 |
| 3 AAO模板法交流电沉积镍纳米线的研究 | 第43-55页 |
| ·实验部分 | 第43-46页 |
| ·实验试剂 | 第43页 |
| ·实验仪器 | 第43-44页 |
| ·实验装置 | 第44页 |
| ·实验方法 | 第44-45页 |
| ·实验表征 | 第45-46页 |
| ·结果与分析 | 第46-54页 |
| ·AAO模板对沉积效果的影响 | 第46-47页 |
| ·主盐浓度对沉积效果的影响 | 第47-48页 |
| ·电压对沉积效果的影响 | 第48-50页 |
| ·温度对沉积效果的影响 | 第50-51页 |
| ·镍纳米线阵列的SEM表征 | 第51-52页 |
| ·镍纳米线的TEM表征 | 第52-53页 |
| ·镍纳米线阵列的XRD表征 | 第53-54页 |
| ·小结 | 第54-55页 |
| 4 AAO模板中交流电沉积Ni纳米线机理的研究 | 第55-65页 |
| ·实验部分 | 第55-57页 |
| ·实验试剂 | 第55页 |
| ·实验仪器 | 第55页 |
| ·实验内容与方法 | 第55-57页 |
| ·结果与讨论 | 第57-64页 |
| ·AAO模板的U-I曲线 | 第57页 |
| ·不同沉积时间的Ni/AAO组装体系的U-I曲线 | 第57-58页 |
| ·AAO膜的交流阻抗测试 | 第58-60页 |
| ·不同沉积时间的Ni/AAO组装体系的交流阻抗测试 | 第60-62页 |
| ·交流电沉积机理的探讨 | 第62-64页 |
| ·小结 | 第64-65页 |
| 5 镍纳米线电极的制备与性能研究 | 第65-77页 |
| ·实验部分 | 第65-69页 |
| ·实验试剂 | 第65页 |
| ·实验仪器 | 第65-66页 |
| ·实验内容与方法 | 第66-69页 |
| ·结果与讨论 | 第69-76页 |
| ·镍纳米线电极的SEM测试 | 第69-70页 |
| ·镍本体电极与镍纳米线电极的电化学性能测试 | 第70-73页 |
| ·镍本体电极与镍纳米线电极对甲醇的电催化活性测试 | 第73-76页 |
| ·小结 | 第76-77页 |
| 结论 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-83页 |
| 附录A AAO膜与Ni/AAO组装体系的外观形貌 | 第83-84页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第84-85页 |
| 致谢 | 第85-86页 |