| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 印染废水的来源与危害 | 第11-13页 |
| 1.2.1 印染废水的来源 | 第11-12页 |
| 1.2.2 印染废水的危害 | 第12-13页 |
| 1.3 印染废水的处理办法 | 第13-15页 |
| 1.3.1 物理法 | 第13页 |
| 1.3.2 化学法 | 第13-15页 |
| 1.4 半导体光催化基本原理 | 第15-16页 |
| 1.5 影响半导体光催化活性的因素 | 第16-17页 |
| 1.5.1 半导体能带结构的影响 | 第16页 |
| 1.5.2 粒径尺寸的影响 | 第16页 |
| 1.5.3 pH的影响 | 第16页 |
| 1.5.4 晶型结构的影响 | 第16-17页 |
| 1.6 半导体光催化材料的合成方法 | 第17-19页 |
| 1.6.1 水热法 | 第17页 |
| 1.6.2 溶剂热法 | 第17-18页 |
| 1.6.3 共沉淀法 | 第18页 |
| 1.6.4 模板法 | 第18-19页 |
| 1.6.5 微乳液法 | 第19页 |
| 1.7 钨酸亚铁（FeWO_4）纳米材料的研究进展 | 第19-21页 |
| 1.8 离子液体在催化合成中的应用 | 第21-22页 |
| 1.9 论文选题的目的、意义及成果 | 第22-25页 |
| 1.9.1 论文选题的目的、意义 | 第22-23页 |
| 1.9.2 论文选题的技术路线及主要成果 | 第23-25页 |
| 第二章 离子液体中FeWO_4纳米材料的合成及其增强光催化性能研究 | 第25-37页 |
| 2.1 前言 | 第25-26页 |
| 2.2 实验部分 | 第26-28页 |
| 2.2.1 实验仪器设备 | 第26页 |
| 2.2.2 化学试剂 | 第26-27页 |
| 2.2.3 新型FeWO_4的制备 | 第27页 |
| 2.2.4 光催化活性实验 | 第27页 |
| 2.2.5 FeWO_4样品的光电流检测 | 第27-28页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第28-36页 |
| 2.3.1 X射线衍射（XRD）分析 | 第28页 |
| 2.3.2 X射线光电子能谱（XPS）分析 | 第28-29页 |
| 2.3.3 扫描电镜（SEM）分析 | 第29-30页 |
| 2.3.4 透射电镜（TEM）分析 | 第30-31页 |
| 2.3.5 瞬态光电流分析 | 第31-32页 |
| 2.3.6 紫外可见漫反射光谱（DRS）分析 | 第32-33页 |
| 2.3.7 材料的光催化活性考察 | 第33-34页 |
| 2.3.8 光催化材料的稳定性分析 | 第34-35页 |
| 2.3.9 光催化机理探讨 | 第35-36页 |
| 2.4 本章小结 | 第36-37页 |
| 第三章 FeWO_4/Ag_3PO_4纳米异质结材料的合成及其光催化性能研究 | 第37-48页 |
| 3.1 前言 | 第37页 |
| 3.2 实验部分 | 第37-39页 |
| 3.2.1 实验主要仪器 | 第37-38页 |
| 3.2.2 实验试剂 | 第38页 |
| 3.2.3 FeWO_4/Ag_3PO_4光材料的制备 | 第38-39页 |
| 3.2.4 光催化活性实验 | 第39页 |
| 3.2.5 FeWO_4/Ag_3PO_4的光电流检测 | 第39页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第39-47页 |
| 3.3.1 X射线衍射（XRD）分析 | 第39-40页 |
| 3.3.2 X射线光电子能谱（XPS）分析 | 第40-41页 |
| 3.3.3 扫描电镜(SEM)分析 | 第41-42页 |
| 3.3.4 瞬态光电流分析 | 第42页 |
| 3.3.5 紫外可见漫反射光谱(DRS)分析 | 第42-43页 |
| 3.3.6 荧光光谱(PL)分析 | 第43-44页 |
| 3.3.7 光催化活性分析 | 第44-45页 |
| 3.3.8 光催化稳定性评价 | 第45-46页 |
| 3.3.9 光催化机理探讨 | 第46-47页 |
| 3.4 本章小结 | 第47-48页 |
| 第四章 FeWO_4/Ag_3VO_4纳米异质结材料的合成及其光催化性能研究 | 第48-58页 |
| 4.1 前言 | 第48-49页 |
| 4.2 实验部分 | 第49-50页 |
| 4.2.1 实验仪器 | 第49页 |
| 4.2.2 实验试剂 | 第49页 |
| 4.2.3 FeWO_4/Ag_3VO_4光材料的制备 | 第49-50页 |
| 4.2.4 光催化活性实验 | 第50页 |
| 4.2.5 FeWO_4/Ag_3VO_4光电流检测 | 第50页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第50-57页 |
| 4.3.1 X射线衍射（XRD）和X射线光电子能谱（XPS）分析 | 第50-52页 |
| 4.3.2 扫描电镜（SEM）分析 | 第52页 |
| 4.3.3 光电流分析 | 第52-53页 |
| 4.3.4 紫外-可见漫反射（DRS）分析 | 第53-54页 |
| 4.3.5 荧光光谱（PL）分析 | 第54-55页 |
| 4.3.6 光催化活性实验 | 第55-56页 |
| 4.3.7 稳定性试验 | 第56页 |
| 4.3.8 光催化机理探讨 | 第56-57页 |
| 4.4 本章小结 | 第57-58页 |
| 第五章 结论与展望 | 第58-60页 |
| 5.1 结论 | 第58-59页 |
| 5.2 展望 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-70页 |
| 攻读硕士期间发表论文 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
