氢化锆表面多组元阻氢层制备及阻氢机理研究
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 1 绪论 | 第14-34页 |
| 1.1 研究背景 | 第14-17页 |
| 1.1.1 空间电源在航天技术中的应用 | 第14-16页 |
| 1.1.2 常见慢化材料 | 第16-17页 |
| 1.2 氢化锆慢化材料概述 | 第17-19页 |
| 1.2.1 氢化锆的性质及制备 | 第17-18页 |
| 1.2.2 氢化锆慢化剂应用 | 第18-19页 |
| 1.3 存在的主要问题和解决方案 | 第19-21页 |
| 1.3.1 氢损失问题 | 第19-20页 |
| 1.3.2 拟采取的解决方案 | 第20-21页 |
| 1.4 阻氢渗透涂层的研究进展 | 第21-31页 |
| 1.4.1 阻氢渗透机理 | 第21-24页 |
| 1.4.2 常见阻氢渗透涂层 | 第24-27页 |
| 1.4.3 氢化锆表面阻氢渗透涂层研究现状 | 第27-31页 |
| 1.5 研究意义及主要研究内容 | 第31-34页 |
| 1.5.1 研究意义 | 第31-32页 |
| 1.5.2 课题的提出 | 第32-33页 |
| 1.5.3 主要研究内容 | 第33-34页 |
| 2 实验材料与方法 | 第34-40页 |
| 2.1 实验所用材料及主要设备 | 第34-35页 |
| 2.2 氢化锆表面多组元阻氢层制备工艺流程 | 第35-38页 |
| 2.2.1 氢化锆的制备 | 第35-36页 |
| 2.2.2 氢化锆的加工 | 第36页 |
| 2.2.3 多组元阻氢层的制备 | 第36-38页 |
| 2.3 性能表征方法 | 第38-40页 |
| 2.3.1 金相组织观察 | 第38页 |
| 2.3.2 热重-差热分析(TG-DSC) | 第38页 |
| 2.3.3 截面形貌分析(SEM) | 第38页 |
| 2.3.4 物相结构分析(XRD) | 第38页 |
| 2.3.5 俄歇电子能谱分析(AES) | 第38页 |
| 2.3.6 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第38-40页 |
| 3 氢化锆制备 | 第40-52页 |
| 3.1 引言 | 第40页 |
| 3.2 氢化锆制备 | 第40-43页 |
| 3.2.1 实验材料 | 第40-41页 |
| 3.2.2 氢含量标定 | 第41-42页 |
| 3.2.3 氢化锆膨胀率 | 第42-43页 |
| 3.3 氢化异常现象分析 | 第43-46页 |
| 3.3.1 实验材料 | 第43页 |
| 3.3.2 结果与讨论 | 第43-46页 |
| 3.4 机械加工对氢化锆影响 | 第46-51页 |
| 3.4.1 实验材料 | 第47页 |
| 3.4.2 结果与讨论 | 第47-51页 |
| 3.5 本章小结 | 第51-52页 |
| 4 氢化锆表面多组元阻氢层的制备 | 第52-64页 |
| 4.1 引言 | 第52页 |
| 4.2 实验材料 | 第52-53页 |
| 4.3 碳酰胺TG-DSC分析 | 第53-54页 |
| 4.4 原位反应试验 | 第54-55页 |
| 4.4.1 原位氧化条件 | 第54页 |
| 4.4.2 原位反应程度的表征方法 | 第54-55页 |
| 4.5 工艺参数对膜层生长的影响 | 第55-58页 |
| 4.5.1 碳酰胺用量 | 第55-56页 |
| 4.5.2 氧化温度 | 第56-57页 |
| 4.5.3 氧化时间 | 第57-58页 |
| 4.6 氢化锆表面涂层生长动力学研究 | 第58-61页 |
| 4.7 本章小结 | 第61-64页 |
| 5 氢化锆表面多组元阻氢层的性能表征 | 第64-80页 |
| 5.1 引言 | 第64页 |
| 5.2 膜层物相结构分析 | 第64-67页 |
| 5.3 膜层形貌观察 | 第67-71页 |
| 5.4 膜层成分分析 | 第71-72页 |
| 5.5 膜层键态分析 | 第72-78页 |
| 5.5.1 膜层全谱分析 | 第72-75页 |
| 5.5.2 膜层窄谱分析 | 第75-78页 |
| 5.6 本章小结 | 第78-80页 |
| 6 氢化锆表面多组元阻氢层的阻氢性能 | 第80-88页 |
| 6.1 引言 | 第80页 |
| 6.2 实验方法 | 第80-81页 |
| 6.2.1 实验材料及仪器 | 第80页 |
| 6.2.2 氢渗透测试 | 第80-81页 |
| 6.3 结果与讨论 | 第81-87页 |
| 6.3.1 真空热脱氢测试结果 | 第82-86页 |
| 6.3.2 氢渗透气相色谱测试结果 | 第86-87页 |
| 6.4 本章小结 | 第87-88页 |
| 7 膜层阻氢机理分析 | 第88-94页 |
| 7.1 引言 | 第88页 |
| 7.2 实验方法 | 第88-89页 |
| 7.3 结果与讨论 | 第89-93页 |
| 7.3.1 XRD物相分析 | 第89-90页 |
| 7.3.2 XPS价态分析 | 第90-93页 |
| 7.3.3 阻氢机理探究 | 第93页 |
| 7.4 本章小结 | 第93-94页 |
| 8 结论与展望 | 第94-98页 |
| 8.1 结论 | 第94-96页 |
| 8.2 创新点 | 第96页 |
| 8.3 工作展望 | 第96-98页 |
| 参考文献 | 第98-110页 |
| 攻读博士学位期间取得的学术成果 | 第110-112页 |
| 致谢 | 第112-114页 |
| 作者简介 | 第114页 |
