| 摘要 | 第9-10页 |
| Abstract | 第10-11页 |
| 第一章 绪论 | 第12-41页 |
| 1.1 引言 | 第12页 |
| 1.2 LaB_6简介 | 第12-18页 |
| 1.2.1 LaB_6的结构特性 | 第12-14页 |
| 1.2.2 LaB_6的物理和化学性质 | 第14-15页 |
| 1.2.3 LaB_6的研究和应用现状 | 第15-18页 |
| 1.3 透明柔性聚合物基底简介 | 第18-20页 |
| 1.3.1 PET基底的性质和研究现状 | 第18-19页 |
| 1.3.2 其他主要透明柔性聚合物基底 | 第19-20页 |
| 1.4 薄膜表面改性技术 | 第20-23页 |
| 1.4.1 等离子体表面处理 | 第21-22页 |
| 1.4.2 中间过渡层 | 第22-23页 |
| 1.5 LaB_6薄膜的制备方法 | 第23-31页 |
| 1.5.1 LaB_6粉末的制备方法 | 第23-25页 |
| 1.5.2 LaB_6阴极靶材的制备方法 | 第25页 |
| 1.5.3 薄膜的制备方法 | 第25-28页 |
| 1.5.4 磁控溅射镀膜原理及其影响因素 | 第28-31页 |
| 1.6 透明柔性光学薄膜的研究及应用现状 | 第31-37页 |
| 1.6.1 透明柔性光学薄膜的研究及应用现状 | 第31-35页 |
| 1.6.2 LaB_6的光学性能机理及应用现状 | 第35-37页 |
| 1.7 选题依据及主要研究内容 | 第37-41页 |
| 1.7.1 目前存在的主要问题 | 第37-38页 |
| 1.7.2 研究目的及意义 | 第38-39页 |
| 1.7.3 主要研究内容 | 第39-41页 |
| 第二章 实验方案和研究方法 | 第41-58页 |
| 2.1 实验原材料及其用途 | 第41页 |
| 2.2 主要实验设备及其功能 | 第41-51页 |
| 2.3 实验方案及主要研究内容 | 第51-58页 |
| 2.3.1 高纯六硼化镧微米粉末的制备工艺研究 | 第52-53页 |
| 2.3.2 六硼化镧阴极靶材的制备工艺研究 | 第53-55页 |
| 2.3.3 透明柔性基底的表面等离子体处理 | 第55-56页 |
| 2.3.4 透明柔性六硼化镧纳米薄膜的磁控溅射制备工艺研究 | 第56-58页 |
| 第三章 富硼LaB_6磁控溅射阴极靶材的制备与成分设计 | 第58-74页 |
| 3.1 高纯LaB_6微米粉末的制备 | 第58-65页 |
| 3.1.1 LaB_6粉末的XRD分析 | 第58-59页 |
| 3.1.2 LaB_6粉末的形貌分析 | 第59-62页 |
| 3.1.3 LaB_6粉末的晶粒尺寸分析 | 第62-63页 |
| 3.1.4 LaB_6粉末的粒度分析 | 第63-64页 |
| 3.1.5 LaB_6粉末的成分分析 | 第64-65页 |
| 3.2 富硼LaB_6阴极靶材的制备 | 第65-68页 |
| 3.2.1 靶材组织结构分析 | 第65-67页 |
| 3.2.2 靶材力学性能分析 | 第67-68页 |
| 3.3 富硼靶材和薄膜间化学当量相关性研究 | 第68-73页 |
| 3.3.1 薄膜的组织结构和成分分析 | 第68-70页 |
| 3.3.2 靶材富硼量对沉积速率的影响 | 第70页 |
| 3.3.3 薄膜成分对力学性能的影响 | 第70-73页 |
| 3.4 本章小结 | 第73-74页 |
| 第四章 磁控溅射LaB_6薄膜的组织结构研究 | 第74-91页 |
| 4.1 LaB_6薄膜沉积速率 | 第74-78页 |
| 4.1.1 溅射方式对沉积速率的影响 | 第74-76页 |
| 4.1.2 氩气气压对沉积速率的影响 | 第76-77页 |
| 4.1.3 溅射时间对沉积速率的影响 | 第77-78页 |
| 4.2 LaB_6薄膜的形貌分析 | 第78-83页 |
| 4.2.1 基底表面处理对薄膜形貌的影响 | 第78-80页 |
| 4.2.2 溅射方式对薄膜形貌的影响 | 第80-82页 |
| 4.2.3 氩气气压对薄膜形貌的影响 | 第82-83页 |
| 4.2.4 溅射时间对薄膜形貌的影响 | 第83页 |
| 4.3 LaB_6薄膜的分子结构分析 | 第83-87页 |
| 4.3.1 LaB_6薄膜的拉曼光谱分析 | 第85-87页 |
| 4.4 LaB_6薄膜的精细结构分析 | 第87-89页 |
| 4.6 本章小结 | 第89-91页 |
| 第五章 LaB_6薄膜的性能研究 | 第91-105页 |
| 5.1 LaB_6薄膜的力学性能研究 | 第91-97页 |
| 5.1.1 溅射功率对薄膜力学性能的影响 | 第92-93页 |
| 5.1.2 氩气气压对薄膜力学性能的影响 | 第93-95页 |
| 5.1.3 溅射时间对薄膜力学性能的影响 | 第95-97页 |
| 5.2 LaB_6薄膜的光学性能研究 | 第97-101页 |
| 5.2.1 溅射功率对薄膜光学性能的影响 | 第97-99页 |
| 5.2.2 氩气气压对薄膜光学性能的影响 | 第99-100页 |
| 5.2.3 溅射时间对薄膜光学性能的影响 | 第100-101页 |
| 5.3 LaB_6薄膜透明隔热性能计算 | 第101-104页 |
| 5.3.1 溅射功率对薄膜透明隔热性能的影响 | 第102-103页 |
| 5.3.2 氩气气压对薄膜透明隔热性能的影响 | 第103页 |
| 5.3.3 溅射时间对薄膜透明隔热性能的影响 | 第103-104页 |
| 5.4 本章小结 | 第104-105页 |
| 第六章 结论 | 第105-107页 |
| 6.1 本文的主要结论 | 第105-106页 |
| 6.2 本文的主要创新点 | 第106页 |
| 6.3 对下一步研究工作的建议 | 第106-107页 |
| 参考文献 | 第107-121页 |
| 致谢 | 第121-122页 |
| 附录 | 第122-123页 |
| 附件 | 第123页 |