| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第9-22页 |
| 1.1 半导体光电催化剂 | 第9-16页 |
| 1.1.1 半导体光学性质 | 第9-11页 |
| 1.1.2 半导体光电催化原理 | 第11-12页 |
| 1.1.3 半导体光电催化剂材料的改性方法 | 第12-16页 |
| 1.2 三氧化钨（WO_3）的发展历程和制备方法 | 第16-20页 |
| 1.2.1 WO_3半导体的研究现状和改性方法 | 第16-17页 |
| 1.2.2 WO_3薄膜的制备方法 | 第17-20页 |
| 1.3 本论文的选题意义、创新点以及主要内容 | 第20-22页 |
| 第二章 FTO/WO_3/Ni(OH)_2光电极薄膜氧化葡萄糖制氢气 | 第22-31页 |
| 2.1 引言 | 第22页 |
| 2.2 制备WO_3/Ni(OH)_2的实验部分 | 第22-25页 |
| 2.2.1 实验试剂与仪器 | 第22-24页 |
| 2.2.2 制备FTO/WO_3/Ni(OH)_2薄膜 | 第24-25页 |
| 2.3 数据分析 | 第25-30页 |
| 2.3.1 场发射扫描电子显微镜（FE-SEM）形貌表征 | 第25-26页 |
| 2.3.2 拉曼（Raman）光谱表征 | 第26-27页 |
| 2.3.3 X射线衍射光谱（XRD）表征 | 第27-28页 |
| 2.3.4 紫外-可见光吸收曲线表征 | 第28-29页 |
| 2.3.5 循环伏安法（Cycle Votammetry）测定Ni(OH)_2电位 | 第29-30页 |
| 2.3.6 FTO/WO_3/Ni(OH)_2电极氧化葡萄糖 | 第30页 |
| 2.4 小结 | 第30-31页 |
| 第三章FTO/WO_3/BiVO_4复合膜电催化光解水的研究 | 第31-40页 |
| 3.1 引言 | 第31-32页 |
| 3.2 实验部分 | 第32-34页 |
| 3.2.1 仪器与试剂 | 第32-33页 |
| 3.2.2 滴涂法制备FTO/WO_3/BiVO_4复合电极 | 第33-34页 |
| 3.3 数据分析 | 第34-39页 |
| 3.3.1 X射线衍射光谱（XRD）表征 | 第34-35页 |
| 3.3.2 拉曼（Raman）光谱表征 | 第35-36页 |
| 3.3.3 场发射扫描电子显微镜（FE-SEM）形貌表征 | 第36页 |
| 3.3.4 紫外-可见光吸收曲线表征 | 第36-38页 |
| 3.3.5 FTO/WO_3/BiVO4复合薄膜电极用于氧化水 | 第38-39页 |
| 3.4 小结 | 第39-40页 |
| 第四章 多孔WO_3薄膜光解水 | 第40-50页 |
| 4.1 引言 | 第40-41页 |
| 4.2 制备多孔WO_3薄膜的实验部分 | 第41-44页 |
| 4.2.1 实验试剂与仪器 | 第41-42页 |
| 4.2.2 制备多孔WO_3薄膜电极 | 第42-44页 |
| 4.3 数据分析 | 第44-49页 |
| 4.3.1 场发射扫描电子显微镜（FE-SEM）形貌表征 | 第44-45页 |
| 4.3.2 X射线衍射光谱（XRD）表征 | 第45-46页 |
| 4.3.3 拉曼（Raman）光谱表征 | 第46页 |
| 4.3.4 紫外-可见光吸收曲线表征 | 第46-48页 |
| 4.3.5 多孔三氧化钨薄膜电极用于光解水 | 第48-49页 |
| 4.4 结论 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 代表性学术成果 | 第62页 |
