摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5页 |
第1章 绪论 | 第8-14页 |
1.1 课题背景及意义 | 第8-9页 |
1.2 国内外研究现状 | 第9-13页 |
1.2.1 电弧温度场分布的测量 | 第9-12页 |
1.2.2 电弧电流密度的测量 | 第12-13页 |
1.3 本文研究内容 | 第13-14页 |
第2章 分裂阴极法测量GMAW电弧电流密度分布 | 第14-32页 |
2.1 引言 | 第14页 |
2.2 分裂阴极法的实验原理 | 第14-16页 |
2.3 分裂阴极法的试验系统及实验方案 | 第16-21页 |
2.3.1 分裂阴极法实验系统的建立 | 第16-19页 |
2.3.2 分裂阴极法实验方案 | 第19-21页 |
2.4 实验结果及数据处理 | 第21-30页 |
2.4.1 实验结果 | 第21-23页 |
2.4.2 数据的处理 | 第23-28页 |
2.4.3 尖角现象的解释 | 第28-30页 |
2.5 本章小结 | 第30-32页 |
第3章 激光干涉法测量GMAW电弧等离子体的温度场分布 | 第32-60页 |
3.1 引言 | 第32页 |
3.2 激光干涉计量方法的实验原理 | 第32-40页 |
3.2.1 激光的叠加原理 | 第32-33页 |
3.2.2 条纹能见度 | 第33页 |
3.2.3 干涉条纹的反演 | 第33-35页 |
3.2.4 组分密度的计算方法 | 第35-40页 |
3.3 激光干涉法的试验系统及实验方案 | 第40-46页 |
3.3.1 激光干涉法计量的实验系统 | 第40-46页 |
3.3.2 激光干涉计量法实验方案 | 第46页 |
3.4 实验结果及数据处理 | 第46-58页 |
3.4.1 全息图的拍摄 | 第46-49页 |
3.4.2 图像处理 | 第49-54页 |
3.4.3 全息干涉图的计算 | 第54-58页 |
3.5 本章小结 | 第58-60页 |
第4章 GMAW电弧等离子体温度场分布的影响因素 | 第60-80页 |
4.1 引言 | 第60页 |
4.2 不同电流下GMAW电弧等离子体的温度场分布 | 第60-69页 |
4.2.1 不同电流下折射率符号的判断 | 第60-62页 |
4.2.2 不同电流下的GMAW电弧等离子体温度场分布计算 | 第62-67页 |
4.2.3 焊接电流对GMAW电弧等离子体的温度场的影响 | 第67-69页 |
4.3 干伸长及气流量对于GMAW电弧等离子体温度场分布的影响 | 第69-75页 |
4.3.1 干伸长对于GMAW电弧等离子体温度场分布的影响 | 第69-72页 |
4.3.2 保护气流量对于GMAW电弧等离子体温度场分布的影响 | 第72-75页 |
4.4 熔滴过渡过程对GMAW电弧等离子体温度分布的影响 | 第75-79页 |
4.5 本章小结 | 第79-80页 |
结论 | 第80-81页 |
参考文献 | 第81-85页 |
致谢 | 第85页 |