| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-20页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·透明导电薄膜 | 第9页 |
| ·透明导电氧化物薄膜 | 第9-11页 |
| ·ZAO 薄膜概述 | 第11-15页 |
| ·ZAO 薄膜的特性 | 第11-12页 |
| ·ZAO 薄膜国内外研究现状以及发展趋势 | 第12-15页 |
| ·ZAO 薄膜的应用 | 第15-17页 |
| ·研究课题的提出及本论文的结构 | 第17-20页 |
| ·研究课题的提出 | 第17-19页 |
| ·本论文的结构 | 第19-20页 |
| 第二章 ZAO 薄膜的制备方法与表征手段 | 第20-29页 |
| ·ZAO 薄膜的制备方法 | 第20-24页 |
| ·样品的表征手段 | 第24-29页 |
| ·X 射线衍射仪(XRD) | 第24-25页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第25页 |
| ·紫外-可见分光光度计（UV-ViS） | 第25-26页 |
| ·荧光光谱仪（PL） | 第26-27页 |
| ·四探针电阻率/方阻测试仪 | 第27-29页 |
| 第三章 溶胶-凝胶法和磁控溅射法制备 ZAO 薄膜工艺研究 | 第29-60页 |
| ·溶胶-凝胶法制备 ZAO 薄膜 | 第29-44页 |
| ·溶胶-凝胶法制备ZAO 薄膜的工艺 | 第29-33页 |
| ·溶胶的制备 | 第30页 |
| ·衬底的清洗与烘干 | 第30-32页 |
| ·浸渍提拉成膜 | 第32-33页 |
| ·实验仪器与设备 | 第33页 |
| ·溶胶-凝胶法工艺参数对制备 ZAO 薄膜的影响 | 第33-44页 |
| ·溶胶浓度对 ZAO 薄膜结晶性能的影响 | 第33-35页 |
| ·掺铝浓度对 ZAO 薄膜结晶性能的影响 | 第35-38页 |
| ·陈化时间对 ZAO 薄膜结晶性能的影响 | 第38-40页 |
| ·预处理温度对 ZAO 薄膜结晶性能的影响 | 第40-41页 |
| ·退火温度对 ZAO 薄膜结晶性能的影响 | 第41-43页 |
| ·镀膜厚度对 ZAO 薄膜结晶性能的影响 | 第43-44页 |
| ·小结 | 第44页 |
| ·磁控溅射法制备ZAO 薄膜 | 第44-55页 |
| ·磁控溅射法制备 ZAO 薄膜的工艺 | 第44-47页 |
| ·磁控溅射实验设备 | 第44-46页 |
| ·磁控溅射工艺流程 | 第46-47页 |
| ·磁控溅射法工艺参数对制备 ZAO 薄膜的影响 | 第47-55页 |
| ·衬底温度对 ZAO 薄膜结晶性能、电学性能的影响 | 第47-49页 |
| ·溅射功率对 ZAO 薄膜结晶性能、电学性能的影响 | 第49-51页 |
| ·溅射气压对 ZAO 薄膜结晶性能、电学性能的影响 | 第51-52页 |
| ·溅射偏压对 ZAO 薄膜结晶性能、电学性能的影响 | 第52-55页 |
| ·小结 | 第55页 |
| ·薄膜的表面形貌与光学性能分析 | 第55-59页 |
| ·薄膜的表面形貌分析 | 第56-58页 |
| ·薄膜的光学性能分析 | 第58-59页 |
| ·本章总结 | 第59-60页 |
| 第四章 二步法制备绒面结构 ZAO 薄膜 | 第60-64页 |
| ·二步法制备ZAO 薄膜工艺条件 | 第60页 |
| ·二步法制备ZAO 薄膜的结晶性能 | 第60-61页 |
| ·二步法制备ZAO 薄膜的表面形貌 | 第61页 |
| ·二步法制备ZAO 薄膜的光学性能 | 第61-63页 |
| ·二步法制备ZAO 薄膜的电学性能 | 第63页 |
| ·本章总结 | 第63-64页 |
| 第五章 绒面ZAO 薄膜在非晶硅太阳电池前电极的应用 | 第64-68页 |
| ·实验 | 第64-66页 |
| ·结果分析与讨论 | 第66-67页 |
| ·本章总结 | 第67-68页 |
| 第六章 总结与展望 | 第68-72页 |
| ·总结 | 第68-70页 |
| ·展望 | 第70-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-79页 |
| 附录：攻读硕士学位期间所取得的科研成果 | 第79页 |
