| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-15页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 国内外研究动态 | 第10-11页 |
| 1.3 加速管的发展及其特点 | 第11-13页 |
| 1.4 加速管应具备的基本要求 | 第13页 |
| 1.5 文章安排 | 第13-15页 |
| 第二章 电子光学的基础理论 | 第15-23页 |
| 2.1 浸没透镜结构电场对单个电子的聚焦和发散作用 | 第15-19页 |
| 2.2 静电场中的电子轨迹 | 第19-22页 |
| 2.3 本章小结 | 第22-23页 |
| 第三章 加速管电子光学的设计与优化 | 第23-37页 |
| 3.1 电子光学的计算机辅助设计 | 第23页 |
| 3.2 ELV-8 加速器加速管电子光学系统 | 第23-24页 |
| 3.3 EB固化低能电子加速器加速管电子光学系统设计要求 | 第24-25页 |
| 3.4 EB固化低能电子加速器加速管电子光学系统仿真设计与优化 | 第25-36页 |
| 3.4.1 电子动力学的基本公式 | 第25页 |
| 3.4.2 移植的ELV-8 加速管结构的电子光学仿真 | 第25-28页 |
| 3.4.3 对移植结构的优化及仿真 | 第28-36页 |
| 3.4.3.1 优化方式的考虑 | 第28-30页 |
| 3.4.3.2 锥度结构的电子枪 | 第30-31页 |
| 3.4.3.3 第一电极内径对束流直径影响的仿真 | 第31-33页 |
| 3.4.3.4 第二电极内径对束流直径影响的仿真 | 第33页 |
| 3.4.3.5 优化结构及其对高压和束流变化的适应性仿真 | 第33-36页 |
| 3.5 本章小结 | 第36-37页 |
| 第四章 加速管绝缘的击穿和设计 | 第37-64页 |
| 4.1 电场的计算理论 | 第37-40页 |
| 4.1.1 电场计算的基本公式 | 第37页 |
| 4.1.2 二维静电场有限元分析 | 第37-40页 |
| 4.2 绝缘区域的划分 | 第40页 |
| 4.3 绝缘材料体击穿和材质选择 | 第40-42页 |
| 4.3.1 绝缘材料的体击穿 | 第40-41页 |
| 4.3.2 绝缘材料的选择 | 第41-42页 |
| 4.4 真空击穿相关现象及其理论 | 第42-46页 |
| 4.4.1 绝缘材料高度的选择 | 第42页 |
| 4.4.2 真空击穿的阶段划分及起因 | 第42-43页 |
| 4.4.3 场致发射 | 第43页 |
| 4.4.4 微粒引发的击穿 | 第43-46页 |
| 4.4.5 微放电 | 第46页 |
| 4.5 真空击穿的应对措施 | 第46-47页 |
| 4.6 真空沿面闪络 | 第47-58页 |
| 4.6.1 抑制电荷在绝缘环表面积累所采用的措施 | 第48-50页 |
| 4.6.2 三结合点处的结构仿真分析 | 第50-58页 |
| 4.6.2.1 绝缘环 45°的结构 | 第50-51页 |
| 4.6.2.2 胶瘤对三结合点影响的仿真 | 第51-58页 |
| 4.7 高气压侧的高压击穿 | 第58-63页 |
| 4.7.1 绝缘气体 | 第58-60页 |
| 4.7.2 加速管高气压侧的静电场结构优化 | 第60-63页 |
| 4.8 本章小结 | 第63-64页 |
| 第五章 加速管的实现与测试 | 第64-73页 |
| 5.1 加速管的实现 | 第64-67页 |
| 5.1.1 粘接加速管与钎焊加速管 | 第64-65页 |
| 5.1.2 粘接加速管法兰所需要注意的问题 | 第65-67页 |
| 5.2 加速管的测试 | 第67-72页 |
| 5.2.1 加速管真空性能的测试 | 第67-68页 |
| 5.2.2 加速管的耐压老炼 | 第68-70页 |
| 5.2.3 加速管的出束测试 | 第70-72页 |
| 5.3 本章小结 | 第72-73页 |
| 第六章 全文总结与展望 | 第73-75页 |
| 6.1 全文总结 | 第73-74页 |
| 6.2 后续工作展望 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-80页 |
