| 摘要 | 第1-5页 |
| abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-21页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·热电效应及性能参数 | 第9-13页 |
| ·热电效应 | 第9-11页 |
| ·热电材料性能参数 | 第11-13页 |
| ·热电材料研究现状与前景 | 第13-17页 |
| ·近室温用半导体热电材料 | 第13-14页 |
| ·中温用方钴矿(Skutterudide)热电材料 | 第14-15页 |
| ·中温用金属硅化物型热电材料 | 第15-16页 |
| ·中高温用Half-Heusler型热电材料 | 第16页 |
| ·中高温用氧化物型热电材料 | 第16-17页 |
| ·In_2Se_3基热电材料 | 第17-21页 |
| 第二章 实验 | 第21-25页 |
| ·材料制备 | 第21-22页 |
| ·实验设备 | 第22页 |
| ·材料性能表征 | 第22-25页 |
| ·电学性能测试 | 第22-23页 |
| ·热学性能测试 | 第23页 |
| ·其它物理性能测试 | 第23-25页 |
| 第三章 S掺杂In_2Se_3基半导体的结构及热电性能研究 | 第25-35页 |
| ·引言 | 第25页 |
| ·材料的制备 | 第25页 |
| ·结果与讨论 | 第25-33页 |
| ·微观结构分析 | 第25-27页 |
| ·X射线光电子能谱分析 | 第27-28页 |
| ·紫外吸收光谱分析 | 第28-29页 |
| ·热电性能分析 | 第29-31页 |
| ·霍尔系数 | 第31-32页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第32-33页 |
| ·小结 | 第33-35页 |
| 第四章 锂掺杂In_2Se_3基半导体的结构及热电性能研究 | 第35-45页 |
| ·引言 | 第35页 |
| ·材料的制备 | 第35-36页 |
| ·结果与讨论 | 第36-42页 |
| ·微观结构分析 | 第36-37页 |
| ·X射线光电子能谱分析 | 第37-38页 |
| ·热电性能分析 | 第38-41页 |
| ·霍尔系数 | 第41页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第41-42页 |
| ·小结 | 第42-45页 |
| 第五章 结论 | 第45-47页 |
| 参考文献 | 第47-51页 |
| 致谢 | 第51-53页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第53页 |
