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含能材料分子反应机理研究

摘要第1-5页
Abstract第5-11页
1 绪论第11-16页
   ·含能材料研究背景和现状第11-14页
   ·本文的研究内容和意义第14-16页
2 基本理论和方法第16-23页
   ·密度泛函理论第16-21页
     ·Thomas-Fermi模型第16-17页
     ·Hohenberg-Kohn定理第17-18页
     ·Kohn-Sham方程第18-19页
     ·交换-相关能泛函第19-21页
   ·自洽反应场(SCRF)理论第21-23页
3 空位缺陷对黑索金(RDX)晶体的微观性质的影响第23-42页
   ·引言第23页
   ·RDX晶体单胞及其缺陷晶体的计算第23-32页
     ·模型建立与计算方法第23-25页
     ·结果与讨论第25-32页
       ·几何结构第25-26页
       ·电子结构第26-31页
       ·缺陷形成能第31-32页
   ·RDX晶体超胞及其缺陷晶体的计算第32-40页
     ·模型建立与计算方法第32-33页
     ·结果与讨论第33-40页
       ·几何结构第33-35页
       ·电子结构第35-40页
       ·缺陷形成能第40页
   ·小结第40-42页
4 3,4-二硝基氧化呋咱的合成反应机理第42-55页
   ·引言第42-43页
   ·乙二肟与硝酸、四氧化二氮合成DNFX第43-49页
     ·预测反应机理第43页
     ·计算方法第43-44页
     ·结果与讨论第44-49页
       ·几何构型第44-47页
       ·频率分析第47页
       ·能量第47-49页
   ·二硝基甲烷钾盐与五氧化二氮、硝酸合成DNFX第49-54页
     ·预测反应机理第49-50页
     ·计算方法第50页
     ·结果与讨论第50-54页
       ·几何构型第50-52页
       ·频率分析第52-53页
       ·能量第53-54页
   ·小结第54-55页
总结与展望第55-57页
参考文献第57-62页
发表论文情况第62-63页
致谢第63-64页

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