ITO薄膜的制备及优化设计
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 1 绪论 | 第10-15页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·国内外发展现状 | 第11-13页 |
| ·本文的研究工作和内容 | 第13-15页 |
| ·研究目的 | 第13页 |
| ·研究内容 | 第13-14页 |
| ·创新点 | 第14-15页 |
| 2 ITO薄膜理论基础 | 第15-30页 |
| ·引言 | 第15页 |
| ·ITO薄膜的制备方法 | 第15-20页 |
| ·真空蒸发法 | 第15-17页 |
| ·溶胶凝胶法 | 第17-18页 |
| ·喷雾热分解法 | 第18-19页 |
| ·化学气相沉积法 | 第19-20页 |
| ·磁控溅射原理 | 第20-22页 |
| ·溅射 | 第20-21页 |
| ·磁控溅射工作原理 | 第21-22页 |
| ·ITO薄膜的透明导电机理 | 第22-27页 |
| ·导电机理 | 第22-26页 |
| ·可见光透射机理 | 第26-27页 |
| ·ITO薄膜的沉积成膜理论 | 第27-30页 |
| ·溅射成膜过程 | 第27页 |
| ·Thorton理论 | 第27-30页 |
| 3 ITO工艺参数优化设计 | 第30-45页 |
| ·引言 | 第30页 |
| ·实验条件 | 第30-33页 |
| ·实验设备 | 第30-31页 |
| ·样品制备 | 第31-32页 |
| ·样品测试表征方法 | 第32-33页 |
| ·气体流量比对ITO薄膜的影响 | 第33-36页 |
| ·溅射压强对ITO薄膜的影响 | 第36-38页 |
| ·温度对ITO薄膜的影响 | 第38-41页 |
| ·功率对ITO薄膜的影响 | 第41-45页 |
| 4 双层ITO薄膜的制备与研究 | 第45-56页 |
| ·引言 | 第45页 |
| ·能量过滤磁控溅射技术(EFDMS)介绍 | 第45-47页 |
| ·网孔大小对ITO薄膜的影响 | 第47-49页 |
| ·EFDMS沉积厚度对ITO薄膜粗糙度的影响 | 第49-54页 |
| ·引言 | 第49-50页 |
| ·实验 | 第50页 |
| ·结果和讨论 | 第50-54页 |
| ·结论 | 第54-56页 |
| 5 结论 | 第56-58页 |
| ·本文的主要结论 | 第56-57页 |
| ·本论文的创新之处 | 第57页 |
| ·论文需要完善之处 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 个人简历与硕士期间发表论文 | 第63页 |
