氮化钛薄膜的制备与光电性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 1 绪论 | 第10-21页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·节能镀膜玻璃的种类和研究现状 | 第11-13页 |
| ·多层复合膜 | 第11-12页 |
| ·半导体单层膜 | 第12-13页 |
| ·节能镀膜玻璃的理论基础 | 第13-17页 |
| ·节能镀膜玻璃的节能原理 | 第13-15页 |
| ·节能镀膜玻璃的主要功能特点和性能评价指标 | 第15-17页 |
| ·氮化钛薄膜的研究现状和基本性质 | 第17-20页 |
| ·氮化钛薄膜的研究现状 | 第17-18页 |
| ·氮化钛薄膜的结构及基本性质 | 第18-20页 |
| ·本课题的研究意义及研究内容 | 第20-21页 |
| ·研究意义 | 第20页 |
| ·研究内容 | 第20-21页 |
| 2 氮化钛薄膜的制备和性能表征 | 第21-34页 |
| ·氮化钛薄膜的制备方法 | 第21-24页 |
| ·磁控溅射原理 | 第21-22页 |
| ·镀膜设备及原料介绍 | 第22-24页 |
| ·氮化钛薄膜的制备过程 | 第24-25页 |
| ·衬底的处理 | 第24页 |
| ·实验操作过程 | 第24-25页 |
| ·氮化钛薄膜的性能表征 | 第25-34页 |
| ·结构和形貌的表征 | 第25-27页 |
| ·光学性能的测试和表征 | 第27-31页 |
| ·电学性能的测试和表征 | 第31-34页 |
| 3 工艺参数对薄膜性能的影响 | 第34-56页 |
| ·能量过滤磁控溅射技术的介绍 | 第34-36页 |
| ·衬底温度对薄膜性能的研究 | 第36-44页 |
| ·衬底温度对薄膜结晶性能的影响 | 第37-38页 |
| ·衬底温度对薄膜透光率的影响 | 第38-40页 |
| ·衬底温度对薄膜近红外反射率和方块电阻的影响 | 第40-41页 |
| ·衬底温度对薄膜吸收率和禁带宽度的影响 | 第41-42页 |
| ·衬底温度对薄膜光学常数和厚度的影响 | 第42-44页 |
| ·氮氩比对薄膜性能的影响 | 第44-49页 |
| ·氮氩比对薄膜结晶性能的影响 | 第45-46页 |
| ·氮氩比对薄膜透光率的影响 | 第46页 |
| ·氮氩比对薄膜电阻率的影响 | 第46-48页 |
| ·氮氩比对薄膜光学常数的影响 | 第48-49页 |
| ·压强对薄膜性能的影响 | 第49-55页 |
| ·压强对氮化钛薄膜透光率的影响 | 第50-51页 |
| ·压强对氮化钛薄膜厚度的影响 | 第51-52页 |
| ·压强对氮化钛薄膜电阻率的影响 | 第52-54页 |
| ·压强对氮化钛薄膜反射率的影响 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 4 能量过滤磁控溅射技术对氮化钛薄膜性能的影响 | 第56-61页 |
| ·能量过滤磁控溅射技术对氮化钛薄膜性能的影响 | 第56-60页 |
| ·能量过滤磁控溅射技术对氮化钛薄膜结晶性能的影响 | 第56-57页 |
| ·能量过滤磁控溅射技术对氮化钛薄膜表面形貌的影响 | 第57-58页 |
| ·能量过滤磁控溅射技术对氮化钛薄膜透光率的影响 | 第58-59页 |
| ·能量过滤磁控溅射对氮化钛薄膜反射率和电阻的影响 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 5 存在的问题与展望 | 第61-62页 |
| ·存在的问题 | 第61页 |
| ·展望和建议 | 第61-62页 |
| 6 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 个人简历及硕士期间发表论文 | 第67页 |
