| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-31页 |
| ·前言 | 第11页 |
| ·金刚石的晶体结构 | 第11-12页 |
| ·纳米、超纳米金刚石薄膜的特性及应用 | 第12-20页 |
| ·纳米、超纳米金刚石薄膜的特性 | 第12-16页 |
| ·纳米、超纳米金刚石薄膜的应用 | 第16-20页 |
| ·纳米、超纳米金刚石薄膜的研究概况 | 第20-21页 |
| ·纳米、超纳米金刚石薄膜的主要制备方法 | 第21-24页 |
| ·微波等离子体CVD法 | 第22-23页 |
| ·热丝等离子体CVD法 | 第23-24页 |
| ·MPCVD技术的相关介绍 | 第24-25页 |
| ·MPCVD法沉积纳米金刚石薄膜的机理 | 第25-28页 |
| ·本论文的研究内容及意义 | 第28-31页 |
| 第2章 实验装置及表征方法 | 第31-39页 |
| ·纳米金刚石薄膜的制备装置 | 第31-35页 |
| ·样品的表征方法 | 第35-39页 |
| ·光学显微镜 | 第35页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第35-36页 |
| ·激光拉曼光谱 | 第36-37页 |
| ·X射线衍射 | 第37-39页 |
| 第3章 CH_4/H_2气体体系工艺参数对纳米金刚石薄膜形貌以及质量的影响 | 第39-53页 |
| ·引言 | 第39页 |
| ·实验 | 第39-40页 |
| ·纳米金刚石薄膜的生长研究 | 第40-51页 |
| ·基片温度对纳米金刚石薄膜生长的影响 | 第40-43页 |
| ·微波功率和反应气压对纳米金刚石薄膜生长的影响 | 第43-45页 |
| ·碳源浓度对纳米金刚石薄膜生长的影响 | 第45-50页 |
| ·形核密度对纳米金刚石薄膜生长的影响 | 第50-51页 |
| ·本章小结 | 第51-53页 |
| 第4章 氮气、氩气对沉积纳米金刚石薄膜的影响 | 第53-65页 |
| ·引言 | 第53-54页 |
| ·CH_4/H_2/N_2气体体系制备纳米金刚石薄膜 | 第54-57页 |
| ·氩气对超纳米金刚石薄膜的影响 | 第57-63页 |
| ·超纳米金刚石薄膜的生长的工艺参数 | 第57-58页 |
| ·超纳米金刚石薄膜的SEM分析 | 第58-59页 |
| ·超纳米金刚石薄膜拉曼光谱分析 | 第59-60页 |
| ·超纳米金刚石薄膜的XRD图谱分析 | 第60-63页 |
| 本章小结 | 第63-65页 |
| 第5章 全文总结与展望 | 第65-67页 |
| ·论文总结 | 第65-66页 |
| ·展望 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-73页 |
| 硕士研究生期间发表的论文 | 第73-75页 |
| 致谢 | 第75页 |