| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-20页 |
| ·概述 | 第12页 |
| ·难降解废水概述 | 第12-14页 |
| ·印染废水 | 第12-13页 |
| ·含Cr(Ⅵ)废水 | 第13-14页 |
| ·光催化技术概述 | 第14-15页 |
| ·光催化技术 | 第14-15页 |
| ·光催化与电催化技术的结合 | 第15页 |
| ·可见光响应催化材料的研究现状 | 第15-17页 |
| ·钛系催化材料的改性 | 第15-16页 |
| ·卤化银的研究现状 | 第16-17页 |
| ·其他可见光响应型光催化材料 | 第17页 |
| ·论文研究目的、意义及内容 | 第17-20页 |
| ·研究目的及意义 | 第17-18页 |
| ·研究内容 | 第18-20页 |
| 第二章 AgI/Am-TiO_2-O光催剂的制备、表征 | 第20-31页 |
| ·引言 | 第20-21页 |
| ·实验部分 | 第21-23页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第21-22页 |
| ·光催化剂的制备 | 第22-23页 |
| ·光催化剂的表征 | 第23页 |
| ·光电化学性能研究 | 第23页 |
| ·光催化薄膜的表征结果 | 第23-27页 |
| ·XRD分析结果 | 第23-24页 |
| ·TEM分析结果 | 第24-25页 |
| ·XPS分析结果 | 第25-26页 |
| ·UV-Vis DRS分析结果 | 第26-27页 |
| ·光电化学性能研究 | 第27-30页 |
| ·时间-电流曲线分析结果 | 第27-28页 |
| ·交流阻抗谱分析结果 | 第28-29页 |
| ·Mott-Schottky曲线分析结果 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 AgI/Am-TiO_2-O光催化性能研究 | 第31-41页 |
| ·引言 | 第31页 |
| ·实验部分 | 第31-33页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第31-32页 |
| ·实验方法与分析方法 | 第32-33页 |
| ·AgI/Am-TiO_2-O光催化Org Ⅱ、RhB性能 | 第33-38页 |
| ·AgI/Am-TiO_2-X的催化性能比较 | 第33-34页 |
| ·pH值、催化剂的量、光照强度对AgI/Am-TiO_2-10催化性能的影响 | 第34-35页 |
| ·AgI/TiO_2摩尔比=10%的不同AgI/TiO_2催化剂的性能比较 | 第35-36页 |
| ·AgI/TiO_2摩尔比=10%的不同AgI/TiO_2光催化RhB性能 | 第36-37页 |
| ·AgI/Am-TiO_2-O的稳定性 | 第37-38页 |
| ·AgI/Am-TiO_2光催化机理讨论 | 第38页 |
| ·AgI/Am-TiO_2-O协同降解性能 | 第38-40页 |
| ·协同降解RhB/Cr(Ⅵ)性能 | 第39页 |
| ·pH值对协同降解RhB/Cr(Ⅵ)的影响 | 第39-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第四章 Ta/Al-Fe_2O_3光催化薄膜的制备、表征 | 第41-58页 |
| ·引言 | 第41-42页 |
| ·实验部分 | 第42-44页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第42-43页 |
| ·光催化薄膜的制备 | 第43-44页 |
| ·光催化薄膜的表征 | 第44页 |
| ·光电化学性能研究 | 第44页 |
| ·光催化薄膜的表征结果 | 第44-49页 |
| ·XRD分析结果 | 第44-45页 |
| ·XPS分析结果 | 第45-47页 |
| ·UV-Vis分析结果 | 第47页 |
| ·SEM与HRTEM分析结果 | 第47-49页 |
| ·光电化学性能研究 | 第49-57页 |
| ·线性扫描伏安曲线分析结果 | 第49-53页 |
| ·IPCE分析结果 | 第53页 |
| ·交流阻抗谱分析结果 | 第53-54页 |
| ·Mott-Schott-曲线分析结果 | 第54-55页 |
| ·稳定性分析结果 | 第55-56页 |
| ·机理研究 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第五章 Ta/Al-Fe_2O_3光电催化降解MB研究 | 第58-67页 |
| ·引言 | 第58-59页 |
| ·实验部分 | 第59-60页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第59页 |
| ·实验方法与分析方法 | 第59-60页 |
| ·Ta/Al-Fe_2O_3光电催化降解MB性能 | 第60-62页 |
| ·Ta/Al-Fe_2O_3光电催化降解MB的因素研究 | 第62-64页 |
| ·溶液pH值对催化性能的影响 | 第62-63页 |
| ·外加偏压对催化性能的影响 | 第63-64页 |
| ·Ta/Al-Fe_2O_3光催化薄膜的稳定性 | 第64-65页 |
| ·Ta/Al-Fe_2O_3光电催化氧化降解MB机理讨论 | 第65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 第六章 结论与展望 | 第67-70页 |
| ·结论 | 第67-68页 |
| ·创新点 | 第68-69页 |
| ·展望 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-78页 |
| 攻读硕士学位期间发表和交流的论文及其它成果 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
