| 致谢 | 第1-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 目录 | 第10-12页 |
| 第一篇 316L不锈钢表面OTS SAM的制备 | 第12-60页 |
| ·引言 | 第12-37页 |
| ·研究背景 | 第12-13页 |
| ·316L不锈钢及自组装单分子膜概述 | 第13-14页 |
| ·316L不锈钢表面自组装单分子膜的主要种类 | 第14-22页 |
| ·自组装单分子膜在316L不锈钢表面上的应用 | 第22-25页 |
| ·影响有机硅烷类自组装单分子膜生成的条件 | 第25-30页 |
| ·自组装单分子膜的性质与表征 | 第30-35页 |
| ·本篇研究内容 | 第35-37页 |
| ·实验部分 | 第37-40页 |
| ·实验仪器及药品 | 第37-38页 |
| ·样品制备 | 第38-39页 |
| ·316L不锈钢表面OTS SAM的表征 | 第39-40页 |
| ·结果与讨论 | 第40-49页 |
| ·基底羟基化 | 第40-41页 |
| ·新工艺条件的优化 | 第41-43页 |
| ·316L不锈钢表面OTS SAM的表面形貌分析 | 第43-45页 |
| ·316L不锈钢表面OTS SAM的全反射红外分析 | 第45-46页 |
| ·316L不锈钢表面OTS SAM的稳定性研究 | 第46-49页 |
| ·本篇小结 | 第49-50页 |
| ·参考文献 | 第50-60页 |
| 第二篇 单晶硅表面辛基三乙氧硅烷/十八烷基三氯硅烷均相混合自组装单分子膜的表征和形成机制研究 | 第60-84页 |
| ·研究背景及内容 | 第60-62页 |
| ·实验部分 | 第62-67页 |
| ·实验药品及设备 | 第62页 |
| ·单晶硅基底预处理 | 第62-63页 |
| ·SAM样品的制备 | 第63-64页 |
| ·静电力显微镜简介 | 第64页 |
| ·SAM样品的表征 | 第64-67页 |
| ·结果与讨论 | 第67-77页 |
| ·C8TES/OTS均相混合SAM形成机制 | 第67-69页 |
| ·C8TES/OTS均相混合SAM样品表面接触角分析 | 第69-70页 |
| ·SAM表面形貌及表面电势分析 | 第70-74页 |
| ·C8TES/OTS均相混合SAM的红外分析 | 第74-77页 |
| ·本篇小结 | 第77-78页 |
| ·参考文献 | 第78-84页 |
| 作者简历及在校期间取得的科研成果 | 第84页 |
