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磁控溅射法制备TiNi合金薄膜及其性能分析

中文摘要第1-5页
Abstract第5-9页
第1章 绪论第9-30页
   ·Ti-Ni 形状记忆合金薄膜概述第9-15页
     ·Ti-Ni 形状记忆合金薄膜的发展第9-10页
     ·Ti-Ni 形状记忆合金薄膜在微机电系统中的应用第10-15页
   ·TiNi 形状记忆合金薄膜的性能特点及作用机理第15-22页
     ·形状记忆合金薄膜的形状记忆效应第15-18页
     ·超弹性能第18-20页
     ·TiNi 形状记忆合金薄膜中的析出相第20-22页
   ·TiNi 形状记忆合金薄膜的研究现状第22-28页
     ·钛镍合金薄膜的制备方法第22-25页
     ·晶化热处理工艺第25-28页
     ·新的研究方向第28页
   ·选题目的和研究内容第28-30页
第2章 溅射压强与靶基距对薄膜成分的影响第30-42页
   ·引言第30-31页
   ·实验过程第31-33页
   ·实验结果与讨论第33-41页
   ·本章小结第41-42页
第3章 TiNi薄膜显微结构的分析第42-54页
   ·引言第42页
   ·实验过程第42-43页
   ·实验结果与讨论第43-53页
   ·本章小结第53-54页
第4章 不同溅射压强下薄膜的相变伪弹性及力学性能第54-67页
   ·引言第54-55页
   ·实验过程第55页
   ·实验结果与讨论第55-65页
   ·本章小结第65-67页
第5章 结论第67-68页
参考文献第68-74页
致谢第74页

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