摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-10页 |
第一章 绪论 | 第10-18页 |
·课题背景 | 第10-11页 |
·三烷氧基硅烷的研究及进展 | 第11-17页 |
·三烷氧基硅烷的制备方法 | 第11-13页 |
·直接法 | 第11-12页 |
·硅氯仿醇解法 | 第12页 |
·HSi(NMe_2)_3 醇解法 | 第12-13页 |
·酯交换法 | 第13页 |
·直接法合成三烷氧基硅烷催化剂体系的研究现状 | 第13-15页 |
·含卤铜催化剂 CuCl 或CuCl_2 | 第13页 |
·非卤铜催化剂Cu(OH)_2、CuO 和Cu_2O | 第13-14页 |
·复合催化剂 | 第14页 |
·有机铜盐催化剂 | 第14页 |
·其它金属催化剂 | 第14-15页 |
·三烷氧基硅烷的应用 | 第15-17页 |
·制取防护涂料 | 第15页 |
·制备硅烷偶联剂 | 第15-16页 |
·特种液体介质 | 第16页 |
·制备光导纤维 | 第16页 |
·制备透明树脂 | 第16页 |
·制备硅溶胶 | 第16-17页 |
·制备多晶硅 | 第17页 |
·主要研究内容 | 第17-18页 |
第二章 实验材料和研究方法 | 第18-30页 |
·前言 | 第18-19页 |
·实验药品 | 第18-19页 |
·实验仪器 | 第19页 |
·原料的选择 | 第19-20页 |
·硅粉 | 第19-20页 |
·醇 | 第20页 |
·溶剂的选择 | 第20-21页 |
·催化剂与硅粉的预处理 | 第21页 |
·反应器 | 第21-24页 |
·固定床 | 第21-22页 |
·浆态反应釜 | 第22-24页 |
·产物的分离和纯化 | 第24-26页 |
·反应精馏 | 第24-25页 |
·萃取精馏 | 第25页 |
·盐效分离 | 第25-26页 |
·表征和测试方法 | 第26-30页 |
第三章 纳米非卤铜催化剂催化合成三乙氧基硅烷 | 第30-48页 |
·前言 | 第30页 |
·实验部分 | 第30-32页 |
·催化剂的制备 | 第30-31页 |
·纳米氢氧化铜的制备 | 第30页 |
·纳米氧化亚铜的制备 | 第30-31页 |
·纳米氧化铜的制备 | 第31页 |
·催化剂的表征及活性评价 | 第31-32页 |
·实验结果与讨论 | 第32-47页 |
·催化剂的表征结果 | 第32-38页 |
·不同表面活性剂对制备氢氧化铜的影响 | 第32-33页 |
·温度对制备氢氧化铜的影响 | 第33-34页 |
·不同方法制备氢氧化铜的SEM 图 | 第34-35页 |
·氧化亚铜的XRD 图 | 第35-36页 |
·不同还原剂对制备氧化亚铜的影响 | 第36-37页 |
·分散剂对制备氧化铜的影响 | 第37-38页 |
·氧化铜的SEM 图 | 第38页 |
·催化剂的活性评价结果 | 第38-47页 |
·氢氧化铜催化合成三乙氧基硅烷 | 第38-39页 |
·反应温度对合成反应的影响 | 第39-40页 |
·乙醇滴加速度对合成反应的影响 | 第40-41页 |
·硅粉粒度合成反应的影响 | 第41页 |
·溶剂用量对合成反应的影响 | 第41-43页 |
·催化剂用量对合成反应的影响 | 第43-45页 |
·氢氧化铜复合催化剂催化合成三乙氧基硅烷 | 第45-47页 |
·CuO 助剂用量对合成反应的影响 | 第45-46页 |
·Cu_2O 助剂用量对合成反应的影响 | 第46-47页 |
·本章小结 | 第47-48页 |
第四章 纳米铜-钴复合型催化剂催化合成三乙氧基硅烷 | 第48-62页 |
·引言 | 第48页 |
·实验部分 | 第48-50页 |
·催化剂的制备 | 第48-49页 |
·催化剂的表征 | 第49页 |
·催化剂的活性评价 | 第49-50页 |
·结果与讨论 | 第50-59页 |
·催化剂的表征结果 | 第50-51页 |
·铜-钴复合型催化剂的表征结果 | 第50-51页 |
·Co_3O_4 助剂的表征结果 | 第51页 |
·Co-Cu(OH)_2 复合型催化剂催化合成三乙氧基硅烷 | 第51-58页 |
·反应温度对合成反应的影响 | 第51-53页 |
·乙醇加料速度对合成反应的影响 | 第53-55页 |
·不同硅粉粒度对产物选择性的影响 | 第55-56页 |
·Co-Cu(OH)_2 复合型催化剂用量对合成反应的影响 | 第56-58页 |
·Co_3O_4 助剂对合成反应的影响 | 第58-59页 |
·本章小结 | 第59-62页 |
第五章 CuCl 催化合成三乙氧基硅烷的机理探讨 | 第62-70页 |
·引言 | 第62-66页 |
·Cu/Si 体系扩散机制及研究方法 | 第62-64页 |
·硅化物界面反应动力学概论 | 第64-65页 |
·Cu/Si 体系界面反应动力学 | 第65-66页 |
·CuCl 催化合成三乙氧基硅烷的机理假设 | 第66-67页 |
·硅-铜表面反应分析 | 第67-69页 |
·催化剂活性中间体的XRD 分析 | 第67-69页 |
·催化剂活性中间体的SEM 分析 | 第69页 |
·本章小结 | 第69-70页 |
结论 | 第70-72页 |
参考文献 | 第72-75页 |
致谢 | 第75-76页 |
攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第76-77页 |