| 中文摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-10页 |
| 第一章 引言 | 第10-35页 |
| ·课题背景 | 第10-11页 |
| ·ZrO_2纳米材料 | 第11-16页 |
| ·ZrO_2的结构与性质 | 第11页 |
| ·ZrO_2纳米粒子的研究进展 | 第11-14页 |
| ·一维ZrO_2材料的研究现状 | 第14-16页 |
| ·HfO_2纳米材料 | 第16-23页 |
| ·HfO_2的结构与性质 | 第16-17页 |
| ·一维HfO_2材料的研究现状 | 第17-20页 |
| ·HfO_2高k栅介质薄膜的研究现状 | 第20-23页 |
| ·论文的选题思路及主要工作 | 第23-24页 |
| 参考文献 | 第24-35页 |
| 第二章 ZrO_2及HfO_2低维材料的制备工艺及表征方法 | 第35-55页 |
| ·高压静电纺丝技术 | 第35-42页 |
| ·静电纺丝概述 | 第35-36页 |
| ·静电纺丝原理 | 第36-39页 |
| ·静电纺丝过程中影响纤维形态的因素 | 第39-42页 |
| ·溅射法简介 | 第42-46页 |
| ·溅射概述 | 第42-43页 |
| ·溅射原理 | 第43-46页 |
| ·溅射参数 | 第46页 |
| ·相关的样品检测方法 | 第46-50页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第46-47页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第47页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第47-48页 |
| ·X射线能量色散谱(EDX) | 第48页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第48页 |
| ·椭圆偏振光(SE) | 第48-49页 |
| ·荧光光谱 | 第49页 |
| ·电容-电压测量(C-V) | 第49页 |
| ·电流-电压测量(I-V) | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-55页 |
| 第三章 ZrO_2及HfO_2一维纳米材料的制备 | 第55-81页 |
| ·引论 | 第55页 |
| ·ZrO_2纳米带的合成与表征 | 第55-66页 |
| ·实验方法 | 第55-56页 |
| ·电纺丝参数对ZrO_2纤维形态结构的影响 | 第56-66页 |
| ·溶液浓度对ZrO_2纳米纤维形态结构的影响 | 第57-63页 |
| ·纺丝电压对ZrO_2纤维形态结构的影响 | 第63-64页 |
| ·固化距离对ZrO_2纤维形态结构的影响 | 第64-66页 |
| ·HfO_2纳米带的合成与表征 | 第66-75页 |
| ·引论 | 第66页 |
| ·实验方法 | 第66-67页 |
| ·纺丝温度对HfO_2纤维形态结构的影响 | 第67-70页 |
| ·高温环境中静电纺丝制备HfO_2纳米带的机理 | 第70-73页 |
| ·高温环境下电纺丝制备其他材料的纳米带 | 第73-75页 |
| ·实验方法 | 第73-74页 |
| ·ZnO、SnO_2、PAN纳米带的形貌表征 | 第74-75页 |
| ·本章小结 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-81页 |
| 第四章 稀土掺杂ZrO_2纳米粒子的表面包覆及其发光特性 | 第81-100页 |
| ·引言 | 第81-82页 |
| ·样品的合成及包覆 | 第82-84页 |
| ·稀土掺杂ZrO_2纳米材料的合成 | 第82-83页 |
| ·不同粒度ZrO_2：Tb~(3+)粉末样品 | 第82页 |
| ·ZrO_2：Tb~(3+)-Gd~(3+)粉末样品 | 第82-83页 |
| ·稀土掺杂的ZrO_2颗粒表面包覆无机外壳层 | 第83-84页 |
| ·包覆SiO_2壳层 | 第83页 |
| ·包覆SiO_2：Gd~(3+)壳层 | 第83-84页 |
| ·ZrO_2：Tb~(3+)纳米材料的结构与发光特性 | 第84-87页 |
| ·ZrO_2：Tb~(3+)纳米材料的结构表征 | 第84-86页 |
| ·ZrO_2：Tb~(3+)纳米粒子的发光特性 | 第86-87页 |
| ·ZrO_2：Tb~(3+)纳米粒子的SiO_2包覆及其发光性能 | 第87-92页 |
| ·SiO_2包覆ZrO_2：Tb~(3+)纳米颗粒的结构表征 | 第87-89页 |
| ·TEM分析 | 第87-88页 |
| ·XRD分析 | 第88-89页 |
| ·SiO_2包覆壳层对ZrO_2：Tb~(3+)纳米颗粒发光性能的影响 | 第89-92页 |
| ·ZrO_2：Tb~(3+)-Gd~(3+)纳米粒子的活性包覆及其发光性能 | 第92-96页 |
| ·活性外壳包覆ZrO_2：Tb~(3+)-Gd~(3+)纳米粒子的结构表征 | 第93-94页 |
| ·活性外壳包覆对ZrO_2：Tb~(3+)-Gd~(3+)纳米粒子的发光性能的影响 | 第94-96页 |
| ·本章小结 | 第96-97页 |
| 参考文献 | 第97-100页 |
| 第五章 高K HfO_2薄膜的溅射法制备与性能表征 | 第100-130页 |
| ·研究背景 | 第100页 |
| ·本工作中的实验参数 | 第100-104页 |
| ·实验仪器及实验材料 | 第100-102页 |
| ·HfO_2薄膜的制备 | 第102-104页 |
| ·结果与讨论 | 第104-124页 |
| ·HfO_2薄膜的结构 | 第104-109页 |
| ·HfO_2栅介质的C-V特性 | 第109-117页 |
| ·HfO_2栅介质的I-V特性及泄露电流机制 | 第117-124页 |
| ·本章小结 | 第124-126页 |
| 参考文献 | 第126-130页 |
| 第六章 结论与展望 | 第130-132页 |
| ·本论文的主要结论 | 第130-131页 |
| ·下一步工作展望 | 第131-132页 |
| 在读期间的研究成果 | 第132-134页 |
| 致谢 | 第134页 |
