自清洁纳米TiO2薄膜陶瓷的制备与性能研究
摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-12页 |
第一章 绪论 | 第12-27页 |
·引言 | 第12页 |
·自洁功能陶瓷 | 第12-15页 |
·自洁功能陶瓷分类 | 第12-13页 |
·自洁功能陶瓷制备方法 | 第13页 |
·自洁功能陶瓷自洁技术简介 | 第13-15页 |
·纳米TiO_2自洁功能陶瓷 | 第15-20页 |
·纳米TiO_2的基本性能 | 第16-18页 |
·纳米TiO_2的自洁原理 | 第18-19页 |
·纳米TiO_2的自洁性能改善 | 第19-20页 |
·纳米TiO_2基建材及其应用 | 第20-21页 |
·自洁防污 | 第20页 |
·空气净化 | 第20-21页 |
·杀菌消毒 | 第21页 |
·其它应用 | 第21页 |
·纳米TiO_2自洁功能陶瓷研究现状 | 第21-24页 |
·国外研究现状 | 第21-23页 |
·国内研究现状 | 第23-24页 |
·课题的研究目的、意义及内容 | 第24-27页 |
·研究目的、意义 | 第24-25页 |
·研究内容 | 第25-27页 |
第二章 实验原料与研究方法 | 第27-32页 |
·实验原料和主要仪器 | 第27-28页 |
·实验用原料 | 第27页 |
·实验用仪器及设备 | 第27-28页 |
·制备工艺 | 第28-29页 |
·分析测试方法 | 第29-32页 |
·亲水性能的测试 | 第29页 |
·粒度测试 | 第29-30页 |
·热分析 | 第30页 |
·原子力显微分析 | 第30页 |
·金相显微结构分析 | 第30页 |
·红外光谱分析 | 第30-31页 |
·物相分析 | 第31页 |
·扫描电镜分析 | 第31-32页 |
第三章 TiO_2薄膜陶瓷砖的制备与研究 | 第32-57页 |
·TiO_2薄膜样品制备 | 第32-36页 |
·实验体系的选择 | 第32-33页 |
·基体材料的预处理 | 第33-35页 |
·溶胶的制备 | 第35页 |
·薄膜的负载 | 第35-36页 |
·TiO_2溶胶的稳定性 | 第36-37页 |
·TiO_2薄膜的表征 | 第37-44页 |
·TG-DSC分析 | 第37-38页 |
·XRD分析 | 第38-41页 |
·FT-IR分析 | 第41-43页 |
·薄膜的AFM分析 | 第43-44页 |
·薄膜的SEM分析 | 第44页 |
·TiO_2薄膜的性能研究 | 第44-55页 |
·TiO_2薄膜亲水性能 | 第44-50页 |
·光照条件对TiO_2薄膜亲水性能的影响 | 第45-48页 |
·热处理温度对TiO_2薄膜亲水性能的影响 | 第48-49页 |
·TiO_2薄膜涂覆层数对亲水性能的影响 | 第49-50页 |
·TiO_2薄膜光催化性能 | 第50-55页 |
·热处理温度对TiO_2薄膜光催化性能的影响 | 第52-53页 |
·光照时间对TiO_2薄膜光催化性能的影响 | 第53-54页 |
·TiO_2薄膜涂覆层数对光催化性能的影响 | 第54-55页 |
·本章小结 | 第55-57页 |
第四章 改性TiO_2薄膜陶瓷砖的制备与研究 | 第57-72页 |
·改性TiO_2薄膜样品制备 | 第57-58页 |
·改性TiO_2薄膜的表征 | 第58-62页 |
·X射线衍射分析 | 第58-60页 |
·薄膜的AFM分析 | 第60-61页 |
·薄膜的SEM分析 | 第61-62页 |
·改性TiO_2薄膜的性能研究 | 第62-70页 |
·改性TiO_2薄膜亲水性能 | 第62-67页 |
·Zn加入量对薄膜亲水性能的影响 | 第62-65页 |
·热处理温度对薄膜亲水性能的影响 | 第65-67页 |
·不同结构的薄膜亲水性能的比较 | 第67页 |
·改性TiO_2薄膜光催化性能 | 第67-70页 |
·Zn加入量对薄膜光催化性能的影响 | 第67-68页 |
·热处理温度对薄膜光催化性能的影响 | 第68-69页 |
·不同结构的薄膜光催化性能的比较 | 第69-70页 |
·本章小结 | 第70-72页 |
第五章 结论与展望 | 第72-74页 |
·结论 | 第72-73页 |
·展望 | 第73-74页 |
参考文献 | 第74-83页 |
攻读硕士学位期间取得的研究结果 | 第83-84页 |
致谢 | 第84-85页 |
附件 | 第85页 |