| 中文摘要 | 第1-14页 |
| Abstract | 第14-16页 |
| 第1章 绪论 | 第16-49页 |
| ·硅材料简介 | 第16-18页 |
| ·硅材料的研究状况 | 第16页 |
| ·硅基光子材料 | 第16-17页 |
| ·硅材料在太阳能电池的应用 | 第17-18页 |
| ·硅材料在传感方面的应用 | 第18页 |
| ·光电化学传感器 | 第18-25页 |
| ·光电化学传感器的定义 | 第18页 |
| ·光电化学传感器的原理 | 第18-19页 |
| ·具有光化学转换性质的材料分类 | 第19页 |
| ·光电材料表面修饰 | 第19-20页 |
| ·光电化学传感器的分类 | 第20-25页 |
| ·光寻址电位型传感器 | 第20-21页 |
| ·电流型光电化学传感器 | 第21-25页 |
| ·过氧化氢及其测定 | 第25-34页 |
| ·常规滴定法测定过氧化氢 | 第26页 |
| ·分光光度法 | 第26-27页 |
| ·化学发光法 | 第27页 |
| ·应光光度法 | 第27-28页 |
| ·色谱法 | 第28页 |
| ·电化学分析法 | 第28-34页 |
| ·酶电流型生物传感器对 H_2O_2的检测 | 第28-32页 |
| ·无酶电流型生物传感器对 H_2O_2的检测 | 第32-34页 |
| ·普鲁士蓝及其衍生物在生物传感器中的应用 | 第34-40页 |
| ·普鲁士蓝的结构 | 第34-35页 |
| ·普鲁士蓝的电化学性质 | 第35-36页 |
| ·普鲁士蓝修饰电极的制备 | 第36-37页 |
| ·基于普鲁士蓝化学修饰电极的应用 | 第37-40页 |
| ·用于非电活性阳离子的检测 | 第38页 |
| ·电化学催化 | 第38页 |
| ·生物传感器 | 第38-40页 |
| ·本论文的研究目的和意义 | 第40-41页 |
| 参考文献 | 第41-49页 |
| 第2章 普鲁士蓝修饰 n-n~+-Si 光电极对 H_2O_2传感的研究 | 第49-63页 |
| ·引言 | 第49-50页 |
| ·试剂及仪器 | 第50页 |
| ·实验过程 | 第50-52页 |
| ·硅片的预处理 | 第50页 |
| ·硅片表面蒸镀金属膜 | 第50-51页 |
| ·PB/Pt/n-n~+-Si 修饰电极的制备 | 第51页 |
| ·修饰电极的活化 | 第51页 |
| ·修饰电极的表征及电化学行为 | 第51页 |
| ·修饰电极对 H_2O_2的安培响应 | 第51页 |
| ·修饰电极的干扰实验 | 第51-52页 |
| ·结果与讨论 | 第52-60页 |
| ·Pt/n-n~+-Si 电极表面沉积 PB 的过程 | 第52-53页 |
| ·PB/Pt/n-n~+-Si 修饰电极的扫描电化学显微镜图 | 第53页 |
| ·PB/Pt/n-n~+-Si 修饰电极的光效应 | 第53-54页 |
| ·PB/Pt/n-n~+-Si 修饰电极对 H_2O_2的电化学行为 | 第54-55页 |
| ·PB 修饰电极对 H_2O_2的安培响应 | 第55-56页 |
| ·PB 修饰电极的干扰实验 | 第56-57页 |
| ·稳定性实验 | 第57-58页 |
| ·本传感器的基本工作原理 | 第58-60页 |
| ·本章小结 | 第60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 第3章 普鲁士蓝/不同金属膜/n-Si 型硅 H_2O_2的电化学传感 | 第63-76页 |
| ·引言 | 第63页 |
| ·试剂与仪器 | 第63-64页 |
| ·实验过程 | 第64-65页 |
| ·n-Si 型硅片的处理 | 第64页 |
| ·硅片表面蒸镀金属膜 | 第64页 |
| ·普鲁士蓝修饰电极的制备 | 第64页 |
| ·修饰电极的活化 | 第64-65页 |
| ·PB 修饰电极的表征及电化学行为 | 第65页 |
| ·PB 修饰电极对 H_2O_2的安培响应 | 第65页 |
| ·结果与讨论 | 第65-74页 |
| ·循环伏安制备 PB 修饰电极的过程 | 第65-66页 |
| ·修饰电极的表征 | 第66页 |
| ·不同基底的修饰电极对光照的响应 | 第66-68页 |
| ·底液和酸度的选择 | 第68-69页 |
| ·扫速对峰电流的影响 | 第69-70页 |
| ·修饰电极对不同浓度 H_2O_2的 CV 响应 | 第70-71页 |
| ·修饰电极对 H_2O_2的安培响应 | 第71-73页 |
| ·干扰实验 | 第73-74页 |
| ·本章小结 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-76页 |
| 第4章 Pt/n-n~+-Si 电极上化学沉积铁氰化镍薄膜及其应用 | 第76-90页 |
| ·引言 | 第76-77页 |
| ·试剂及仪器 | 第77页 |
| ·实验过程 | 第77-79页 |
| ·硅片的预处理 | 第77页 |
| ·硅片表面蒸镀金属膜 | 第77页 |
| ·铁氰化镍修饰电极的制备 | 第77-78页 |
| ·NiHCF 修饰电极的活化 | 第78页 |
| ·NiHCF 修饰电极的表征及电化学行为 | 第78页 |
| ·NiHCF 修饰电极实验条件的优化 | 第78页 |
| ·NiHCF 修饰电极对 H_2O_2的安培响应 | 第78-79页 |
| ·NiHCF 修饰电极的抗干扰实验 | 第79页 |
| ·结果与讨论 | 第79-87页 |
| ·NiHCF/Pt/n-n~+-Si 修饰电极的表征 | 第79-80页 |
| ·NiHCF/Pt/n-n~+-Si 修饰电极的电化学行为 | 第80-81页 |
| ·实验条件的优化 | 第81-82页 |
| ·NiHCF/Pt/n-n~+-Si 修饰电极对 H_2O_2的电化学行为 | 第82-83页 |
| ·NiHCF/Pt/n-n~+-Si 修饰电极对 H_2O_2的安培响应 | 第83-85页 |
| ·NiHCF/Pt/n-n~+-Si 修饰电极的干扰实验 | 第85-86页 |
| ·测量溶液 pH 值的影响 | 第86-87页 |
| ·本章小结 | 第87-88页 |
| 参考文献 | 第88-90页 |
| 第5章 结论及其展望 | 第90-92页 |
| ·结论 | 第90-91页 |
| ·展望 | 第91-92页 |
| 攻读硕士期间发表的论文目录 | 第92-93页 |
| 致谢 | 第93页 |
