| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-12页 |
| 绪论 | 第12-25页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·铜在微型散热器等领域的应用 | 第12-17页 |
| ·铜在微型散热器中的应用 | 第12-14页 |
| ·计算机散热器基本情况 | 第13页 |
| ·计算机散热器用铜材性能分析 | 第13-14页 |
| ·铜在电子封装材料中的应用 | 第14-16页 |
| ·电子封装材料 | 第15-16页 |
| ·电子封装材料应用中存在的问题 | 第16页 |
| ·铜在MEMS封装材料中的应用 | 第16-17页 |
| ·铜在上述应用中存在的问题及解决办法 | 第17页 |
| ·类金刚石膜(DLC) | 第17-23页 |
| ·DLC膜的结构 | 第17-19页 |
| ·DLC膜的性能及应用 | 第19-21页 |
| ·DLC膜的机械性能及应用 | 第19-20页 |
| ·DLC膜的电学性能及应用 | 第20页 |
| ·DLC膜的光学性能及应用 | 第20-21页 |
| ·DLC膜的耐腐蚀性能及应用 | 第21页 |
| ·DLC膜应用中存在的问题 | 第21-23页 |
| ·内应力的解决方法及国内外研究现状 | 第21-22页 |
| ·稳定性的解决方法及国内外研究现状 | 第22-23页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第23-25页 |
| 2 DLC膜的制备与表征 | 第25-39页 |
| ·引言 | 第25页 |
| ·微波电子回旋共振等离子体增强非平衡磁控溅射技术 | 第25-31页 |
| ·微波ECR等离子体源的原理及特点 | 第26-28页 |
| ·磁控溅射原理 | 第28页 |
| ·非平衡磁控溅射原理及特点 | 第28-29页 |
| ·MW-ECR PEUMS系统在设计上的特点 | 第29-31页 |
| ·DLC膜的制备 | 第31-32页 |
| ·DLC膜的表征 | 第32-39页 |
| ·DLC膜结构、表面形貌的表征 | 第32-35页 |
| ·X射线光电子能谱 | 第32-33页 |
| ·拉曼光谱 | 第33-34页 |
| ·X射线衍射 | 第34页 |
| ·电子探针 | 第34页 |
| ·原子力显微镜 | 第34-35页 |
| ·DLC膜机械性能的表征 | 第35-38页 |
| ·纳米压痕检测 | 第35页 |
| ·划痕检测 | 第35-36页 |
| ·摩擦磨损检测 | 第36页 |
| ·静态接触角测量 | 第36页 |
| ·瞬态热反射检测 | 第36-38页 |
| ·DLC膜耐腐蚀性能的表征 | 第38-39页 |
| 3 过渡层的结构设计与筛选 | 第39-56页 |
| ·过渡层的结构设计 | 第39-40页 |
| ·过渡层元素的选取及DLC梯度膜的制备 | 第40-43页 |
| ·选择Ti作过渡层元素 | 第40-42页 |
| ·选择Ti作过渡层元素的理由 | 第40-41页 |
| ·以Ti为过渡层元素沉积DLC膜的制备工艺及参数 | 第41-42页 |
| ·选择Si作过渡层元素 | 第42-43页 |
| ·选择Si作过渡层元素的理由 | 第42页 |
| ·以Si为过渡层元素沉积DLC膜的制备工艺及参数 | 第42-43页 |
| ·不同过渡层元素制备的DLC膜结构的表征 | 第43-47页 |
| ·以Ti为过渡层元素制备的DLC膜结构的表征 | 第43-45页 |
| ·以Si为过渡层元素制备的DLC膜结构的表征 | 第45-47页 |
| ·不同过渡层元素制备的DLC膜表面形貌的表征 | 第47-50页 |
| ·以Ti为过渡层元素制备的DLC膜表面形貌的表征 | 第47-49页 |
| ·以Si为过渡层元素制备的DLC膜表面形貌的表征 | 第49-50页 |
| ·不同过渡层元素制备的DLC膜性能的表征 | 第50-53页 |
| ·以Ti为过渡层元素制备的DLC膜纳米硬度的表征 | 第50-52页 |
| ·以Si为过渡层元素制备的DLC膜纳米硬度的表征 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-56页 |
| ·实验总结 | 第53页 |
| ·结果讨论 | 第53-56页 |
| 4 Ti/Ti_xC_y梯度过渡层结构与性能的研究 | 第56-67页 |
| ·引言 | 第56页 |
| ·Ti/Ti_xC_y过渡层的制备 | 第56-57页 |
| ·Ti/Ti_xC_y过渡层成分、结构的研究 | 第57-61页 |
| ·Ti/Ti_xC_y过渡层成分的分析 | 第57-59页 |
| ·Ti/Ti_xC_y过渡层相结构的分析 | 第59-61页 |
| ·Ti/Ti_xC_y过渡层导热性能研究 | 第61-65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 5 Ti/Ti_xC_y梯度过渡层制备参数的优化 | 第67-113页 |
| ·Ti/Ti_xC_y梯度过渡层上DLC膜的制备 | 第67页 |
| ·改变过渡层沉积偏压制备的DLC膜 | 第67-83页 |
| ·过渡层沉积偏压对DLC膜结构与表面形貌的影响 | 第67-73页 |
| ·过渡层沉积偏压对DLC膜机械性能的影响 | 第73-78页 |
| ·过渡层沉积偏压对DLC膜耐腐蚀性能的影响 | 第78-83页 |
| ·改变过渡层的Ti靶输入电流制备的DLC膜 | 第83-96页 |
| ·过渡层Ti靶输入电流对DLC膜结构与表面形貌的影响 | 第83-89页 |
| ·过渡层Ti靶输入电流对DLC膜机械性能的影响 | 第89-94页 |
| ·过渡层Ti靶输入电流对DLC膜耐腐蚀性能的影响 | 第94-96页 |
| ·改变过渡层的C靶溅射功率制备的DLC膜 | 第96-107页 |
| ·过渡层C靶溅射功率对DLC膜结构与表面形貌的影响 | 第96-102页 |
| ·过渡层C靶溅射功率对DLC膜机械性能的影响 | 第102-106页 |
| ·过渡层C靶溅射功率对DLC膜耐腐蚀性能的影响 | 第106-107页 |
| ·过渡层成分的分析 | 第107-111页 |
| ·本章小结 | 第111-113页 |
| 6 DLC膜制备参数的优化 | 第113-124页 |
| ·在最佳过渡层上沉积DLC膜 | 第113页 |
| ·DLC膜成膜机理的研究 | 第113-116页 |
| ·基片偏压对DLC膜结构与表面形貌的影响 | 第116-118页 |
| ·基片偏压对DLC膜性能的影响 | 第118-123页 |
| ·基片偏压对DLC膜机械性能的影响 | 第118-119页 |
| ·基片偏压对DLC膜传热性能的影响 | 第119-122页 |
| ·基片偏压对DLC膜耐腐蚀性能的影响 | 第122-123页 |
| ·本章小结 | 第123-124页 |
| 结论 | 第124-126页 |
| 参考文献 | 第126-136页 |
| 攻读博士学位期间发表学术论文情况 | 第136-137页 |
| 创新点摘要 | 第137-138页 |
| 致谢 | 第138-139页 |
| 作者简介 | 第139-140页 |
