摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-11页 |
第1章 绪论 | 第11-24页 |
·引言 | 第11-12页 |
·高温测温材料研究现状 | 第12-14页 |
·常规热电材料存在的问题 | 第12页 |
·非金属热电偶材料研究现状 | 第12-13页 |
·复相陶瓷热电偶结构的研究 | 第13-14页 |
·MoSi_2、Si_3N_4 和SiC 氧化行为研究现状 | 第14-19页 |
·Si_3N_4 氧化行为研究现状 | 第14-16页 |
·MoSi_2 氧化行为研究现状 | 第16-17页 |
·SiC 氧化行为研究现状 | 第17-19页 |
·Si_3N_4-MoSi_2 和Si_3N_4-SiC 复相陶瓷研究现状 | 第19-20页 |
·Si_3N_4-MoSi_2 复相陶瓷研究现状 | 第19-20页 |
·Si_3N_4-SiC 复相陶瓷的研究现状 | 第20页 |
·高温氧化研究方法 | 第20-23页 |
·氧化动力学实验 | 第21页 |
·氧化动力学规律 | 第21-23页 |
·主要研究内容 | 第23-24页 |
第2章 材料及试验方法 | 第24-34页 |
·试验材料 | 第24-27页 |
·成分配比设计 | 第24页 |
·烧结助剂选择 | 第24-25页 |
·原始粉末成分及形貌观察 | 第25-27页 |
·材料制备工艺 | 第27-28页 |
·混粉工艺 | 第27页 |
·热压烧结工艺 | 第27-28页 |
·性能测试 | 第28-30页 |
·密度 | 第28-29页 |
·电导率 | 第29页 |
·热膨胀系数 | 第29页 |
·抗弯强度 | 第29-30页 |
·硬度 | 第30页 |
·氧化试验设计 | 第30-32页 |
·材料组织结构与成分分析 | 第32-34页 |
·金相组织观察 | 第32页 |
·SEM 及EDS 分析 | 第32页 |
·XRD 分析 | 第32页 |
·XPS 分析 | 第32-33页 |
·TEM 分析 | 第33-34页 |
第3章 Si_3N_4-MoSi_2和Si_3N_4-SiC 复相陶瓷组织与性能 | 第34-47页 |
·Si_3N_4-MoSi_2 复相陶瓷组织与性能 | 第34-40页 |
·致密度 | 第34页 |
·显微组织分析 | 第34-37页 |
·抗弯强度及断口形貌 | 第37-38页 |
·电导率 | 第38-39页 |
·硬度 | 第39页 |
·热膨胀系数 | 第39-40页 |
·Si_3N_4-SiC 复相陶瓷组织与性能 | 第40-46页 |
·致密度 | 第40-41页 |
·显微组织分析 | 第41-43页 |
·抗弯强度及断口形貌 | 第43-45页 |
·硬度 | 第45-46页 |
·热膨胀系数 | 第46页 |
·本章小结 | 第46-47页 |
第4章 Si_3N_4-MoSi_2复相陶瓷氧化行为及机理研究 | 第47-72页 |
·引言 | 第47页 |
·氧化试样表面物相分析 | 第47-51页 |
·氧化动力学 | 第51-57页 |
·温度对氧化曲线的影响 | 第51-53页 |
·成分对氧化曲线的影响 | 第53-55页 |
·氧化动力学规律分析 | 第55-57页 |
·氧化层显微分析 | 第57-64页 |
·表面形貌及演化 | 第57-60页 |
·氧化层截面分析 | 第60-63页 |
·氧化层XPS 分析 | 第63-64页 |
·Si_3N_4-MoSi_2 复相陶瓷氧化机理分析 | 第64-68页 |
·Si_3N_4-MoSi_2 复相陶瓷低中温氧化行为研究 | 第68-71页 |
·本章小结 | 第71-72页 |
第5章 Si_3N_4-SiC 复相陶瓷氧化行为及机理研究 | 第72-92页 |
·引言 | 第72页 |
·氧化试样表面物相分析 | 第72-75页 |
·Si_3N_4-SiC 复相陶瓷氧化动力学 | 第75-80页 |
·温度对氧化曲线的影响 | 第75-77页 |
·成分对氧化曲线的影响 | 第77-79页 |
·氧化动力学规律分析 | 第79-80页 |
·氧化层显微分析 | 第80-89页 |
·表面形貌及演化 | 第80-85页 |
·氧化层截面分析 | 第85-87页 |
·氧化层XPS 分析 | 第87-89页 |
·Si_3N_4-SiC 复相陶瓷氧化机理分析 | 第89-90页 |
·本章小结 | 第90-92页 |
结论 | 第92-93页 |
参考文献 | 第93-97页 |
哈尔滨工业大学硕士学位论文原创性声明 | 第97页 |
哈尔滨工业大学硕士学位论文使用授权书 | 第97-98页 |
致谢 | 第98页 |