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低频磁屏蔽膜的制备与性能研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-10页
第1章 绪论第10-18页
   ·电磁波屏蔽材料的研究意义第10-14页
     ·电磁干扰第10-12页
     ·信息泄漏第12-13页
     ·电磁辐射对生命体的危害第13-14页
   ·低频磁场及其危害第14-15页
   ·低频磁屏蔽材料的国内外研究现状第15-17页
   ·主要研究内容第17-18页
     ·课题的提出第17页
     ·试验内容第17页
     ·研究方案第17-18页
第2章 电磁屏蔽理论及磁屏蔽效能公式分析第18-40页
   ·引言第18页
   ·电磁屏蔽原理、分类及屏蔽效果表达方法第18-19页
     ·电磁屏蔽原理第18-19页
     ·电磁屏蔽分类第19页
     ·屏蔽效果的表达方法第19页
   ·电磁场的特性第19-22页
     ·近区场第20-21页
     ·远区场第21页
     ·屏蔽效能与场源特性之间的关系第21-22页
   ·平面波电磁屏蔽效能的分析与计算第22-31页
     ·平面波在任意均匀介质中的传播第22-25页
     ·平面波在不同介质界面的反射和透射第25-28页
     ·平面波电磁场的屏蔽效能第28-31页
   ·低频磁屏蔽效能的计算与分析第31-39页
     ·磁场与屏蔽体垂直时屏蔽效能的计算第31-34页
     ·磁场与屏蔽体平行时屏蔽效能的计算第34-39页
   ·本章小节第39-40页
第3章 基体前处理工艺研究第40-52页
   ·引言第40页
   ·实验原料、药品及仪器设备第40-41页
     ·试验原料及所用药品第40-41页
     ·试验所用仪器设备第41页
     ·稳定性试验设计第41页
   ·铜基体前处理工艺第41-42页
   ·铝基体前处理工艺及前处理液稳定性第42-49页
     ·浸锌合金的反应机理第42-43页
     ·浸锌处理前工艺第43页
     ·氢氧化钠对前处理液稳定性的影响第43-45页
     ·络合剂对前处理液稳定性影响第45-46页
     ·氧化锌对前处理液稳定性影响第46-47页
     ·合金元素对前处理液稳定性影响第47-49页
     ·其它对浸液稳定性有影响的因素第49页
   ·浸层形貌、成分分析及施镀效果第49-50页
   ·本章小结第50-52页
第4章 低频磁屏蔽材料的制备工艺第52-70页
   ·实验原理第52-57页
     ·金属电沉积第52-55页
     ·金属共沉积理论第55-56页
     ·非晶、纳米晶态合金的电沉积第56-57页
   ·试验仪器及测试方法第57-58页
   ·电镀基材前处理试验内容第58-59页
     ·铜箔电镀前处理第58页
     ·铝箔电镀前处理第58-59页
   ·非晶、纳米晶软磁合金制备第59页
   ·制备工艺研究第59-68页
     ·主盐浓度与镀层合金成分的关系第59-61页
     ·施镀电压与镀层合金成分的关系第61-62页
     ·镀速随施镀电压的变化关系第62-63页
     ·镀液PH 值随电镀时间的关系第63-64页
     ·镀液晶态结构的影响因素及控制第64-65页
     ·电流密度J 的影响第65页
     ·温度对电镀过程的影响第65页
     ·添加剂(光亮剂)的影响第65-67页
     ·槽液电流效率的测定第67-68页
   ·本章小结第68-70页
第5章 低频磁屏蔽材料的性能研究第70-84页
   ·测试仪器与测试方法第70页
   ·镀层与基体结合力第70-71页
   ·样品截面金相观察第71-72页
   ·镀层显微形貌观察第72-73页
   ·镀层结构X 射线分析第73-74页
   ·镀层软磁性能分析第74-80页
     ·软磁合金镀层磁滞回线的测试分析第74-76页
     ·镀层磁化曲线测试分析第76-78页
     ·镀层磁滞回线测试分析第78-80页
   ·100MHz~1.5GHz 频段电磁屏蔽效能第80-81页
   ·低频磁屏蔽效能第81-83页
   ·本章小节第83-84页
结论第84-86页
参考文献第86-89页
攻读硕士期间所发表的学习论文第89-90页
致谢第90页

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