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电子束蒸发原位退火生长MgB2超导薄膜及其物性研究

摘要第1-8页
Abstract第8-14页
第一章 MgB_2超导体简介第14-37页
 §1.1 MgB_2的发现第14页
 §1.2 MgB_2的结构第14-15页
 §1.3 MgB_2的基本性质第15-18页
  §1.3.1 同位素效应第15-16页
  §1.3.2 霍尔效应第16页
  §1.3.4 高压对MgB_2超导体的影响第16-17页
  §1.3.5 能隙测量第17页
  §1.3.6 相干长度第17-18页
  §1.3.7 不存在弱连接第18页
 §1.4 MgB_2的研究现状第18-26页
  §1.4.1 块材第18-19页
  §1.4.2 线材带材第19-20页
  §1.4.3 薄膜第20-25页
   §1.4.3.1 两步外退火方法制备MgB_2薄膜第22-23页
   §1.4.3.2 两步原位后退火方法制备MgB_2薄膜第23-24页
   §1.4.3.3 一步生长MgB_2薄膜第24-25页
    §1.4.3.3.1 一步低温生长MgB_2薄膜第24-25页
    §1.4.3.3.2 一步高温生长MgB_2薄膜第25页
  §1.4.4 元素掺杂第25-26页
  §1.4.5 MgB_2薄膜器件第26页
 §1.5 本课题研究的内容与意义第26-28页
  §1.5.1 本课题研究的意义第26-27页
  §1.5.2 本课题研究的内容第27-28页
 参考文献第28-37页
第二章 用电子束蒸发制备MgB_2超导薄膜第37-51页
 §2.1 制备MgB_2的热力学理论参考第37-42页
 §2.2 衬底的选取第42-44页
 §2.3 制备MgB_2超导薄膜要注意的两个问题第44-45页
 §2.4 用电子束蒸发原位退火制备MgB_2薄膜第45-48页
  §2.4.1 衬底清洗第46页
  §2.4.2 电子束蒸发制备(B+Mg)先驱膜第46-48页
  §2.4.3 原位退火第48页
 §2.5 实验设备第48页
 §2.6 样品测量第48-49页
 参考文献第49-51页
第三章 在单晶Si(111)和Al_2O_3(0001)衬底上制备MgB_2超导薄膜第51-63页
 §3.1 在单晶Si衬底上制备的不具有超导性的MgB_2薄膜第51-53页
  §3.1.1 衬底清洗第51页
  §3.1.2 电子束蒸发沉积(B+Mg)先驱膜第51页
  §3.1.3 原位退火制备MgB_2薄膜第51-53页
 §3.2 在单晶Si和Al_2O_3衬底上制备MgB_2超导薄膜第53-54页
  §3.2.1 Si(111)衬底清洗第53页
  §3.2.2 Al_2O_3(0001)衬底清洗第53页
  §3.2.3 电子束蒸发沉积(Mg+B)先驱膜第53页
  §3.2.4 原位退火第53-54页
 §3.3 相分析第54-56页
 §3.4 表面形貌第56页
 §3.5 超导转变温度第56-60页
 §3.6 小结第60页
 参考文献第60-63页
第四章 在Al_2O_3衬底上制备超导转变宽度为0.1K的MgB_2均匀超导薄膜第63-68页
 §4.1 电子束蒸发沉积(Mg+B)先驱膜第63页
 §4.2 超导转变温度第63-66页
 §4.3 表面形貌第66-67页
 §4.4 小结第67-68页
第五章 在无缓冲层Si衬底上制备高质量MgB_2超导薄膜第68-85页
 §5.1 沉积带"缓冲层"的(B+Mg)先驱膜第68-69页
 §5.2 B"缓冲层"作用第69-71页
 §5.3 热处理温度对MgB_2超导相的影响第71-76页
 §5.4 电阻率讨论第76-77页
 §5.5 热处理时间对MgB_2超导相的影响第77-81页
 §5.6 小结第81-83页
 参考文献第83-85页
第六章 结论与展望第85-88页
 §6.1 结论第85-87页
 §6.2 问题与展望第87-88页
作者在攻读博士学位期间发表的论文第88-89页
致谢第89页

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