MOCVD工艺沉积YBCO超导层实验研究
摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-9页 |
第一章 概述 | 第9-19页 |
·高温超导材料简介 | 第9-10页 |
·高温超导的主要性质及应用 | 第10-12页 |
·零电阻效应 | 第11页 |
·迈斯纳效应 | 第11页 |
·高温超导的应用 | 第11-12页 |
·YBCO 高温超导体的结构特点 | 第12-14页 |
·YBCO 薄膜的制备技术 | 第14-16页 |
·YBCO 高温超导带材的研究现状 | 第16-18页 |
·本论文的研究意义和内容 | 第18-19页 |
第二章 实验方法及原理 | 第19-34页 |
·MOCVD 技术简介 | 第19-20页 |
·自制MOCVD 系统 | 第20-29页 |
·进液装置的设计与改进 | 第21-22页 |
·蒸发皿的设计与改进 | 第22-25页 |
·反应室温度场和气流场的模拟 | 第25-29页 |
·YBCO 薄膜的表征方法 | 第29-34页 |
·X 射线衍射(XRD) | 第29-30页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第30-32页 |
·临界电流密度(Jc) | 第32-34页 |
第三章 金属有机源的制备和研究 | 第34-44页 |
·金属有机源的性质 | 第34-35页 |
·金属有机源的制备 | 第35-39页 |
·实验仪器及试剂 | 第35页 |
·Y(tmhd)_3 的制备实验 | 第35-36页 |
·Ba(tmhd)_2 的制备实验 | 第36-37页 |
·Cu(tmhd)_2 的制备实验 | 第37页 |
·实验结果 | 第37-39页 |
·金属有机源的提纯 | 第39-40页 |
·重结晶法提纯 | 第39-40页 |
·升华凝华法提纯 | 第40页 |
·加助配体Ba 源的制备 | 第40-43页 |
·本章小节 | 第43-44页 |
第四章 金属基带上YBCO 的制备 | 第44-57页 |
·工艺条件综合性分析 | 第44页 |
·制备工艺对YBCO 成膜的影响 | 第44-54页 |
·温度对YBCO 成膜的影响 | 第44-49页 |
·氧分压对YBCO 成膜的影响 | 第49-52页 |
·源配比对YBCO 成膜的影响 | 第52-54页 |
·MOCVD 工艺沉积YBCO 的可重复性验证 | 第54-56页 |
·本章小节 | 第56-57页 |
第五章 结论 | 第57-59页 |
致谢 | 第59-60页 |
参考文献 | 第60-63页 |
攻硕期间取得的成果 | 第63-64页 |