CMOS二氧化锡气体传感器和系统电路的设计
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-13页 |
| ·研究背景 | 第8-9页 |
| ·传感器的发展进程 | 第9-11页 |
| ·半导体式氧气传感器材料的应用和选择 | 第11-12页 |
| ·研究内容和论文框架 | 第12-13页 |
| 第二章 二氧化锡传感器的工作机理 | 第13-26页 |
| ·物理吸附与化学吸附 | 第15-16页 |
| ·二氧化锡的性质 | 第16-17页 |
| ·气体吸附机理 | 第17-23页 |
| ·氧气的吸附 | 第19页 |
| ·还原气体的吸附 | 第19-21页 |
| ·水气的吸附 | 第21页 |
| ·二氧化锡的导电模型 | 第21-23页 |
| ·催化剂的作用 | 第23-25页 |
| ·半导体气体传感器的特性 | 第25-26页 |
| ·小结 | 第26页 |
| 第三章 传感器的设计 | 第26-39页 |
| ·加热器的设计 | 第26-33页 |
| ·电极与绝缘层的选择 | 第33-34页 |
| ·电极的选择 | 第33页 |
| ·绝缘层的选择 | 第33-34页 |
| ·敏感层的设计 | 第34-37页 |
| ·敏感层的选择 | 第34-35页 |
| ·传感器结构的设计 | 第35-37页 |
| ·传感器结构的设计 | 第37-38页 |
| ·传感器的热仿真结果 | 第38-39页 |
| ·小结 | 第39页 |
| 第四章 外围电路的设计 | 第39-54页 |
| ·系统电路的设计 | 第39-43页 |
| ·Decoder的设计 | 第43-46页 |
| ·放大器的设计 | 第46-54页 |
| ·简单放大器的设计 | 第46-47页 |
| ·密勒补偿运算放大器的设计 | 第47-54页 |
| 第五章 传感器的工艺实现 | 第54-59页 |
| ·CMOS工艺简述 | 第54-56页 |
| ·气体传感器的CMOS制作过程 | 第56-58页 |
| ·二氧化锡敏感膜的制备 | 第58-59页 |
| 第六章 实验结果与分析 | 第59-62页 |
| ·检测系统介绍 | 第59-60页 |
| ·氧气浓度的控制 | 第60页 |
| ·测量 | 第60-61页 |
| ·调零选择 | 第60-61页 |
| ·测试结果 | 第61页 |
| ·结论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |
| 在学期间的研究成果 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
