磁控溅射制备Sb-ZnO薄膜及其性能研究

第一章 绪论	第1-25页
·薄膜概述	第13-14页
·薄膜材料的性质和典型应用	第14-15页
·磁控溅射技术	第15-17页
·ZNO 薄膜的性质及研究进展	第17-21页
·本研究的主要目的和意义	第21-23页
·本研究的主要内容和技术路线	第23-25页
第二章 实验装置与实验方法	第25-30页
·磁控溅射镀膜试验过程	第25-26页
·退火热处理	第26-27页
·结构与性能分析方法	第27-30页
第三章 ZNO 薄膜的制备工艺和光吸收性能研究	第30-53页
·溅射方式和冷却方式的影响	第30-34页
·非晶ZNO 薄膜的探索	第34-38页
·氧分压的影响	第38-42页
·退火温度的影响	第42-45页
·ZNO 薄膜的光吸收性能	第45-51页
·小结	第51-53页
第四章 ZNO 薄膜的电学性能研究	第53-76页
·引言	第53页
·ZNO 薄膜的半导体机理	第53-55页
·工艺参数对ZNO 薄膜电阻率的影响	第55-61页
·ZNO 薄膜的伏安特性和介电强度	第61-64页
·SB_2O_3掺杂对ZNO 薄膜电学性能的影响	第64-69页
·ZNO 薄膜的电阻-温度特性	第69-73页
·小结	第73-76页
第五章 结论	第76-79页
参考文献	第79-85页
致谢	第85-86页
在学期间的研究成果	第86页