第一章 文献综述 | 第1-35页 |
1.液晶现象综述 | 第11-12页 |
2.液晶的分类及其结构特征 | 第12-17页 |
·液晶的分类 | 第12-13页 |
·液晶分子的结构特征 | 第13-14页 |
·液晶分子结构和性质的关系 | 第14-16页 |
·相变温度的变化规律 | 第16-17页 |
·相特征与结构的关系 | 第17页 |
3.液晶的表征 | 第17-20页 |
·热台偏光显微镜 | 第18页 |
·示差扫描量热法(DSC) | 第18-19页 |
·X-射线衍射(X-ray diffraction) | 第19页 |
·小角中子散射方法(SANS) | 第19-20页 |
4.液晶高分子 | 第20-25页 |
·主链液晶高分子 | 第20-21页 |
·侧链液晶高分子 | 第21-23页 |
·液晶高分子的应用 | 第23-25页 |
5.席夫碱的研究进展及分类 | 第25-26页 |
6.梯形聚硅氧烷的研究进展 | 第26-31页 |
7.“逐步偶联聚合法”及其应用 | 第31-35页 |
第二章 2,4-二硝基苯苄醚合成改进及表征 | 第35-41页 |
·实验仪器及试剂 | 第35-36页 |
·实验仪器 | 第35页 |
·实验试剂 | 第35-36页 |
·合成试验 | 第36页 |
·合成2,4-二硝基苯酚 | 第36页 |
·合成2,4-二硝基苯苄醚 | 第36页 |
·结果与讨论 | 第36-39页 |
·Williamson合成法中溶剂对反应收率的影响 | 第36-37页 |
·反应温度、反应时间及用碱量对产品收率的影响 | 第37-39页 |
·2,4-二硝基苯苄醚结构表征 | 第39-40页 |
·小结 | 第40-41页 |
第三章 双羟基席夫碱类液晶化合物的合成及性能研究 | 第41-50页 |
·实验仪器及试剂 | 第41-42页 |
·实验仪器 | 第41页 |
·实验试剂 | 第41-42页 |
·合成实验 | 第42-43页 |
·6—氯己醇的合成 | 第42页 |
·对硝基苯基—(6—羟基)己基醚的合成 | 第42-43页 |
·对胺基苯基—(6—羟基)己基醚的合成 | 第43页 |
·席夫碱的合成 | 第43页 |
·结果与讨论 | 第43-46页 |
·6—氯己醇的合成 | 第43-44页 |
·对硝基苯基—(6—羟基)己基醚的合成 | 第44-45页 |
·对胺基苯基—(6—羟基)己基醚的合成 | 第45-46页 |
·席夫碱的合成 | 第46页 |
·席夫碱结构表征 | 第46-48页 |
·IR谱图 | 第46页 |
·~1H—NMR谱图 | 第46-48页 |
·小结 | 第48-50页 |
第四章 二元席夫碱小分子的合成及表征 | 第50-56页 |
·实验仪器及试剂 | 第50页 |
·实验仪器 | 第50页 |
·实验试剂 | 第50页 |
·合成实验 | 第50-52页 |
·2,4—二硝基苯基—(6—羟基)己基醚的合成 | 第51页 |
·2,4—二胺基苯基—(6—羟基)己基醚的合成 | 第51-52页 |
·席夫碱的合成 | 第52页 |
·结果与讨论 | 第52-53页 |
·2,4—二硝基苯基—(6—羟基)己基醚的合成 | 第52-53页 |
·2,4—二胺基苯基—(6—羟基)己基醚的合成 | 第53页 |
·席夫碱的合成 | 第53页 |
·席夫碱结构表征 | 第53-55页 |
·IR谱图 | 第53-54页 |
·~1H—NMR谱图 | 第54-55页 |
·小结 | 第55-56页 |
第五章 席夫碱侧链液晶聚硅氧烷高分子的合成与表征 | 第56-67页 |
·实验仪器及试剂 | 第56-57页 |
·实验仪器 | 第56页 |
·实验试剂 | 第56-57页 |
·合成实验 | 第57-59页 |
·结果与讨论 | 第59-60页 |
·聚氯丙基倍半硅氧烷的表征 | 第60-63页 |
·席夫碱侧链液晶聚倍半硅氧烷高分子的表征 | 第63-66页 |
·结论 | 第66-67页 |
第六章 结论 | 第67-69页 |
参考文献 | 第69-75页 |
致谢 | 第75-76页 |
攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第76页 |