第一章 文献综述 | 第1-25页 |
第1节 表面图案化技术 | 第7-18页 |
·光刻技术 | 第8-9页 |
·软光刻技术(soft lithography) | 第9-18页 |
·软光刻技术简介 | 第9-15页 |
·软光刻技术的拓展 | 第15-18页 |
第2节 胶体晶体及其图案化方法 | 第18-24页 |
·胶体晶体简介 | 第18-19页 |
·物理模板陷域法 | 第19-21页 |
·化学模板陷域法 | 第21-24页 |
第3节 本课题选题的意义和思路 | 第24-25页 |
第二章 以揭起软光刻技术进行胶体晶体的图案化 | 第25-36页 |
第1节 引言 | 第25页 |
第2节 实验部分 | 第25-27页 |
·实验材料 | 第25-26页 |
·实验方法 | 第26-27页 |
·表征仪器 | 第27页 |
第3节 结果与讨论 | 第27-35页 |
·以揭起软光刻技术进行胶体晶体的图案化 | 第27-31页 |
·以改进的揭起软光刻技术进行胶体晶体的精确图案化 | 第31-32页 |
·二维胶体晶体在PDMS 软基底上的图案化 | 第32-35页 |
第4节 本章小结 | 第35-36页 |
第三章 以胶体晶体为墨水进行微接触印刷 | 第36-47页 |
第1节 引言 | 第36页 |
第2节 实验部分 | 第36-38页 |
·实验材料 | 第36-37页 |
·实验方法 | 第37页 |
·表征仪器 | 第37-38页 |
第3节 结果与讨论 | 第38-46页 |
·以微接触印刷技术实现胶体晶体在任意基底上的图案化 | 第38-41页 |
·在微接触印刷过程中构造二维非紧密堆积的胶体晶体 | 第41-46页 |
第4节 本章小结 | 第46-47页 |
参考文献 | 第47-57页 |
导师及作者简介 | 第57-58页 |
攻读硕士期间发表论文 | 第58-59页 |
致谢 | 第59-60页 |
中文摘要 | 第60-62页 |
英文摘要 | 第62-63页 |