摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-11页 |
1 绪论 | 第11-23页 |
·课题的背景及意义 | 第11-14页 |
·室内空气污染及甲醛的危害 | 第11-12页 |
·室内空气中甲醛污染防治措施与技术 | 第12-13页 |
·非均相光催化氧化降解有机污染物的意义 | 第13-14页 |
·国内外光催化氧化降解室内空气中VOCs的研究进展 | 第14-18页 |
·光催化氧化降解VOCs及甲醛的研究进展 | 第14-16页 |
·光催化剂的研究进展 | 第16-18页 |
·国内外三氧化钨的研究进展 | 第18-21页 |
·三氧化钨的物理化学性质 | 第18-19页 |
·三氧化钨的应用及作为光催化剂的意义 | 第19-20页 |
·三氧化钨的制备方法研究进展 | 第20-21页 |
·本论文主要研究内容 | 第21-23页 |
2 非均相光催化降解气相有机污染物(VOCs)理论基础 | 第23-36页 |
·半导体光催化作用机理 | 第23-25页 |
·半导体光激发带间跃迁 | 第23-24页 |
·半导体的量子效率 | 第24-25页 |
·光催化降解VOCs及气相甲醛的基本原理 | 第25-27页 |
·光催化降解VOCs的基本原理 | 第25-26页 |
·光催化氧化气相甲醛机理 | 第26-27页 |
·影响半导体光催化反应的主要因素 | 第27-33页 |
·半导体光催化剂结构对光催化活性的影响 | 第27-29页 |
·载体效应对光催化活性的影响 | 第29-30页 |
·外场效应的影响 | 第30-31页 |
·提高半导体光催化活性的途径 | 第31-33页 |
·制备纳米级光催化剂 | 第31-32页 |
·催化剂的表面修饰 | 第32页 |
·催化剂—吸附剂载体复合化 | 第32-33页 |
·光催化(PCO)反应器 | 第33-34页 |
·光源 | 第34-36页 |
3 WO_3光催化降解气相甲醛实验方法及钨酸的制备 | 第36-43页 |
·实验仪器与试剂 | 第36-38页 |
·光催化剂负载固定化 | 第38-39页 |
·载体选择 | 第38页 |
·载体的预处理过程 | 第38-39页 |
·负载光催化剂 | 第39页 |
·光催化剂物性表征 | 第39-40页 |
·光催化实验方法 | 第40页 |
·PCO光催化反应动力学 | 第40-41页 |
·动态阳离子树脂交换法制备钨酸溶胶实验 | 第41-43页 |
·实验 | 第41页 |
·实验结果 | 第41-42页 |
·小结 | 第42-43页 |
4 水热法制备WO_3及其光催化降解甲醛活性 | 第43-56页 |
·前言 | 第43-44页 |
·实验 | 第44-45页 |
·实验结果与讨论 | 第45-54页 |
·热处理对钨酸产物晶相的影响 | 第45-48页 |
·热处理钨酸对产物形貌的影响 | 第48-50页 |
·热处理对钨酸产物红外光谱的影响 | 第50-53页 |
·热处理钨酸对产物光催化降解甲醛活性的影响 | 第53-54页 |
·小结 | 第54-56页 |
5 半导体纳米线阵列膜的制备及光催化降解甲醛活性 | 第56-68页 |
·前言 | 第56页 |
·实验 | 第56-57页 |
·多孔阳极氧化铝的制备 | 第56-57页 |
·TiO_2光催化剂的制备 | 第57页 |
·WO_3光催化剂的制备 | 第57页 |
·实验结果与讨论 | 第57-67页 |
·TiO_2/AAO膜的结构表征及其光催化降解甲醛活性 | 第57-63页 |
·X射线衍射分析 | 第57-58页 |
·催化剂比表面积测定 | 第58-59页 |
·催化剂表面形貌 | 第59页 |
·光催化降解甲醛气体 | 第59-60页 |
·反应动力学模型 | 第60-63页 |
·UV光下催化剂吸附活性 | 第63页 |
·WO_3纳米线阵列膜的结构表征及其光催化降解甲醛活性 | 第63-67页 |
·X射线衍射分析 | 第63-64页 |
·XPS分析 | 第64页 |
·催化剂比表面积测定 | 第64-65页 |
·催化剂表面形貌 | 第65-66页 |
·光催化降解甲醛活性 | 第66-67页 |
·小结 | 第67-68页 |
6 超声空化法制备WO_3及其光催化降解甲醛活性 | 第68-82页 |
·前言 | 第68页 |
·实验 | 第68-69页 |
·微孔三氧化钨的制备 | 第68-69页 |
·光催化剂的制备 | 第69页 |
·实验结果与讨论 | 第69-81页 |
·XRD分析 | 第69-74页 |
·三氧化钨表面形貌 | 第74-75页 |
·三氧化钨比表面积测定 | 第75-76页 |
·紫外-可见光吸收光谱分析 | 第76页 |
·红外光谱分析 | 第76-77页 |
·离心样品光催化降解甲醛活性 | 第77-79页 |
·掺杂稀土样品光催化降解甲醛活性 | 第79-80页 |
·掺杂Ni样品光催化降解甲醛活性 | 第80-81页 |
·小结 | 第81-82页 |
7 微波法制备WO_3和复合WO_3·NiO及其光催化降解甲醛活性 | 第82-97页 |
·前言 | 第82-83页 |
·实验 | 第83-84页 |
·催化剂的制备 | 第83-84页 |
·实验结果与讨论 | 第84-96页 |
·样品的XRD分析 | 第84-88页 |
·传统回流样品XRD分析 | 第84-86页 |
·微波辐射回流样品XRD分析 | 第86-87页 |
·掺杂Ni的影响 | 第87-88页 |
·三氧化钨表面形貌 | 第88-90页 |
·三氧化钨比表面积测定 | 第90-91页 |
·紫外-可见光吸收光谱 | 第91-92页 |
·XPS分析 | 第92-94页 |
·光催化降解甲醛活性 | 第94-96页 |
·小结 | 第96-97页 |
8 WO_3·NiO光催化降解甲醛的影响因素及动力学研究 | 第97-107页 |
·前言 | 第97-98页 |
·实验 | 第98页 |
·实验结果与讨论 | 第98-103页 |
·温度影响 | 第98-99页 |
·相对湿度对光催化降解甲醛的影响 | 第99页 |
·循环风量对光催化降解甲醛的影响 | 第99-100页 |
·玻璃纤维布上催化剂负载量对甲醛降解率的影响 | 第100-101页 |
·催化剂吸附性与光催化氧化活性 | 第101-102页 |
·催化剂对甲醛降解率与光源的关系 | 第102-103页 |
·初始浓度对光催化降解甲醛反应的影响 | 第103-105页 |
·光催化剂降解甲醛的稳定性 | 第105页 |
·小结 | 第105-107页 |
9 结论 | 第107-111页 |
致谢 | 第111-113页 |
参考文献 | 第113-127页 |
附录 攻读博士学位期间主要科研成果 | 第127页 |