| 摘 要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪 论 | 第9-22页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·图形薄膜的重要性及研究现状 | 第10-11页 |
| ·基本概念 | 第11-19页 |
| ·磁畴 | 第11页 |
| ·交换作用 | 第11-12页 |
| ·磁各向异性 | 第12-14页 |
| ·静磁相互作用 | 第14-16页 |
| ·自旋波 | 第16-19页 |
| ·本论文工作 | 第19页 |
| 参考文献: | 第19-22页 |
| 第二章 基本实验方法及测试原理 | 第22-33页 |
| ·薄膜的制备 | 第22-27页 |
| ·直流磁控溅射法 | 第22-23页 |
| ·射频溅射法 | 第23-24页 |
| ·离子束溅射法 | 第24-25页 |
| ·图形磁性结构物质的制备 | 第25-26页 |
| ·基片的清洗 | 第26-27页 |
| ·结构表征与物性测量 | 第27-31页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第27页 |
| ·铁磁共振和自旋波共振 (FMR及SWR) | 第27-29页 |
| ·磁光克尔效应(Surface Magneto-optic Kerr Effect，简称SMOKE) | 第29-31页 |
| 参考文献 | 第31-33页 |
| 第三章 电子束光刻亚微米矩形阵列坡莫合金薄膜的磁性研究 | 第33-48页 |
| ·引言 | 第33-34页 |
| ·薄膜样品的制备和测量手段 | 第34页 |
| ·薄膜样品的结构分析(扫描电子显微镜(SEM) | 第34-35页 |
| ·磁光Kerr回线测量结果 | 第35-37页 |
| ·铁磁共振研究 | 第37-46页 |
| ·铁磁共振测量结果 | 第37-38页 |
| ·对实验数据的理论模拟 | 第38-41页 |
| ·拟合结果 | 第41-43页 |
| ·图型薄膜中磁化强度的不均匀激发 | 第43-46页 |
| 参考文献: | 第46-48页 |
| 第四章 亚微米纳米图形薄膜矩形单元退磁场理论计算研究 | 第48-61页 |
| ·前言 | 第48页 |
| ·模型的提出和公式的推导 | 第48-50页 |
| ·退磁场值分布的数值计算 | 第50-56页 |
| ·计算磁场加在各个方向时个矩形单元内部中心轴线上的退磁场分布情况，研究沿单元中心轴线上退磁场的大小和不均匀性 | 第50-54页 |
| ·、磁场沿单元各边的方向时，退磁场方向的分布研究 | 第54-56页 |
| ·阵列单元相互影响的计算 | 第56-60页 |
| ·本章小结 | 第60页 |
| 参考文献: | 第60-61页 |
| 攻读硕士期间发表论文 | 第61-62页 |
| 致 谢 | 第62页 |
