掺杂非晶硅基薄膜的结构及发光特性研究
| 第一章 引言 | 第1-14页 |
| ·研究硅基发光材料的意义 | 第10-11页 |
| ·硅基发光材料的研究进展 | 第11-12页 |
| ·本论文的研究思路和主要内容 | 第12-14页 |
| 第二章 薄膜的制备 | 第14-17页 |
| ·实验装置 | 第14-15页 |
| ·基片的清洗 | 第15-16页 |
| ·薄膜的沉积 | 第16-17页 |
| 第三章 薄膜的表征 | 第17-21页 |
| ·膜厚的测量 | 第17-18页 |
| ·透射电子显微镜以及选区电子衍射(TEM) | 第18页 |
| ·X射线衍射分析(XRD) | 第18-19页 |
| ·傅利叶变换红外光谱分析(FTIR) | 第19-20页 |
| ·光电子能谱分析(XPS) | 第20-21页 |
| 第四章 薄膜的发光 | 第21-23页 |
| ·固体的发光 | 第21-22页 |
| ·光致发光的原理 | 第22-23页 |
| 第五章 Si-SiO_2薄膜的研究 | 第23-27页 |
| ·实验 | 第23-24页 |
| ·薄膜的结构 | 第24-27页 |
| ·薄膜的TEM和XRD测试结果 | 第24-25页 |
| ·薄膜的XPS测试结果 | 第25-26页 |
| ·PL测试结果及讨论 | 第26-27页 |
| 第六章 SiOx:C薄膜的研究 | 第27-35页 |
| ·实验 | 第27-28页 |
| ·薄膜的结构 | 第28-34页 |
| ·薄膜的TEM和XPS测试结果 | 第28-29页 |
| ·薄膜的FTIR测试结果 | 第29-30页 |
| ·薄膜的XPS测试结果 | 第30-32页 |
| ·PL测试结果及讨论 | 第32-34页 |
| ·小结 | 第34-35页 |
| 第七章 SiO_xN_y薄膜的研究 | 第35-44页 |
| ·实验 | 第35-36页 |
| ·薄膜的结构 | 第36-40页 |
| ·薄膜TEM和XRD的测试结果 | 第36-38页 |
| ·薄膜的FTIR测试结果 | 第38页 |
| ·薄膜的XPS测试结果 | 第38-40页 |
| ·薄膜的PL测试结果及讨论 | 第40-43页 |
| ·小结 | 第43-44页 |
| 第八章 基片温度对薄膜的影响 | 第44-48页 |
| ·基片温度对薄膜沉积速率的影响 | 第44-45页 |
| ·基片温度对薄膜结构的影响 | 第45-46页 |
| ·基片温度对PL的影响 | 第46-47页 |
| ·小结 | 第47-48页 |
| 第九章 结束语 | 第48-54页 |
