| 第一章 绪论 | 第1-17页 |
| 第一节 压力传感器的若干类型 | 第7-9页 |
| 第二节 MEMS技术研究综述 | 第9-13页 |
| 第三节 场发射压力传感器的研究现状 | 第13-17页 |
| 第二章 场致电子发射理论和纳米硅薄膜特性研究 | 第17-27页 |
| 第一节 场致电子发射方程 | 第18-20页 |
| 第二节 半导体的场致电子发射 | 第20-24页 |
| 第三节 纳米硅薄膜特性研究 | 第24-27页 |
| 第三章 纳米硅薄膜场发射压力传感器的设计 | 第27-39页 |
| 第一节 影响场发射压力传感器灵敏度的因素 | 第27-30页 |
| 第二节 纳米硅薄膜场发射压力传感器的结构设计 | 第30-32页 |
| 第三节 场发射压力传感器的相关计算 | 第32-39页 |
| 第四章 场发射压力传感器的制备 | 第39-50页 |
| 第一节 硅微机械压力传感器加工技术简介 | 第39-41页 |
| 第二节 阴极尖锥阵列的制备 | 第41-45页 |
| 第三节 工艺流程 | 第45-50页 |
| 第五章 实验结果 | 第50-59页 |
| 第一节 硅尖锥阵列场致发射电压—电流性能测试 | 第50-52页 |
| 第二节 力敏感膜形变特性计算 | 第52-59页 |
| 第六章 结论 | 第59-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-65页 |