| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-7页 |
| 前言 | 第7-8页 |
| 第一章 文献综述 | 第8-23页 |
| ·酞菁化合物 | 第8-14页 |
| ·酞菁化合物的结构特点及性质 | 第8-9页 |
| ·酞菁化合物在高新技术领域的应用 | 第9-11页 |
| ·酞菁化合物作为电荷产生材料的光导电机理 | 第11-13页 |
| ·酞菁化合物的光电性能 | 第13-14页 |
| ·酞菁氧钛 | 第14-22页 |
| ·酞菁氧钛的光电性能 | 第15页 |
| ·酞菁氧钛光敏性能的影响因素 | 第15-16页 |
| ·酞菁氧钛的提纯方法 | 第16-18页 |
| ·调节晶型的方法 | 第18-19页 |
| ·纳米酞菁氧钛的制备 | 第19-20页 |
| ·Y 型酞菁氧钛的光敏性 | 第20-21页 |
| ·酞菁氧钛的稳定性 | 第21-22页 |
| ·本文的研究工作 | 第22-23页 |
| 第二章 实验部分 | 第23-28页 |
| ·原料与仪器 | 第23-24页 |
| ·主要原料与试剂 | 第23页 |
| ·主要分析仪器 | 第23-24页 |
| ·实验方法 | 第24-28页 |
| ·酞菁氧钛的制备 | 第24-25页 |
| ·酞菁氧钛的提纯 | 第24页 |
| ·酞菁氧钛的转型 | 第24页 |
| ·酞菁氧钛的冷冻干燥 | 第24-25页 |
| ·酞菁氧钛的球磨 | 第25页 |
| ·酞菁氧钛的测试 | 第25-28页 |
| ·光电器件的制备 | 第25-26页 |
| ·光电器件的性能测试 | 第26-27页 |
| ·粒度分布测试 | 第27页 |
| ·晶型分析 | 第27-28页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第28-45页 |
| ·析出溶剂对酞菁氧钛性能的影响 | 第28-34页 |
| ·析出溶剂对TIOPC 晶型的影响 | 第28-30页 |
| ·析出溶剂对TIOPC 光敏性能的影响 | 第30-32页 |
| ·析出溶剂对TIOPC 晶型稳定性的影响 | 第32-34页 |
| ·乙醇/水析出溶剂对TIOPC 光敏性的影响 | 第34-35页 |
| ·析出溶剂用量对TIOPC 光敏性的影响 | 第35-36页 |
| ·TIOPC 转型前干燥与否对其光敏性的影响 | 第36页 |
| ·晶型调节时间对TIOPC 的影响 | 第36-37页 |
| ·干燥方式对TIOPC 光敏性的影响 | 第37-40页 |
| ·TIOPC 转型后晶型稳定性的研究 | 第40-44页 |
| ·球磨中各因素对Y-TIOPC 晶型的影响 | 第40-41页 |
| ·不同球磨时间对Y-TIOPC 晶型的稳定性的影响 | 第41-43页 |
| ·不同球磨时间对TIOPC 光敏性的影响 | 第43-44页 |
| ·转型前溶剂处理对TIOPC 光敏性的影响 | 第44-45页 |
| 第四章 结论 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-50页 |
| 参加科研情况说明 | 第50-51页 |
| 附录 | 第51-60页 |
| 致谢 | 第60页 |