高掺硼金刚石薄膜的制备及其特性研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-18页 |
| ·金刚石的结构 | 第9-10页 |
| ·金刚石的性质 | 第10-11页 |
| ·金刚石膜的n型掺杂和p型掺杂 | 第11-13页 |
| ·金刚石膜的n型掺杂 | 第11-12页 |
| ·金刚石膜的p型掺杂 | 第12-13页 |
| ·掺硼金刚石膜的应用 | 第13-16页 |
| ·本文的选题和主要研究内容 | 第16-18页 |
| 2 CVD金刚石薄膜的主要制备方法与表征方法 | 第18-23页 |
| ·CVD金刚石薄膜的主要制备方法 | 第18-20页 |
| ·热丝化学气相沉积(HFCVD)法 | 第18-19页 |
| ·微波等离子化学气相沉积(MPCVD)法 | 第19-20页 |
| ·金刚石薄膜的表征方法 | 第20-23页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第20页 |
| ·激光拉曼光谱(Raman) | 第20-21页 |
| ·X射线衍射分析法(XRD) | 第21页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第21-22页 |
| ·四点探针 | 第22页 |
| ·膜厚测量仪 | 第22-23页 |
| 3 HFCVD法制备高掺硼金刚石薄膜的设备与工艺 | 第23-29页 |
| ·热丝化学气相沉积系统简介 | 第23-25页 |
| ·掺硼金刚石薄膜的制备工艺 | 第25-29页 |
| ·硼源的选择以及掺硼方法 | 第25-26页 |
| ·掺硼金刚石薄膜的制备 | 第26-29页 |
| 4 掺硼浓度对金刚石薄膜生长特性和结构性能的影响 | 第29-42页 |
| ·掺硼浓度对金刚石薄膜表面形貌的影响 | 第30-31页 |
| ·掺硼浓度对金刚石薄膜结晶性能的影响 | 第31-33页 |
| ·不同掺硼浓度下金刚石薄膜的拉曼分析 | 第33-35页 |
| ·掺硼浓度对金刚石薄膜电学性能的影响 | 第35-36页 |
| ·高掺硼金刚石薄膜的XPS谱分析 | 第36-41页 |
| ·XPS分析掺硼金刚石薄膜中的化学键结构 | 第36-40页 |
| ·XPS分析掺硼金刚石薄膜中化学键的含量 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 5 影响高掺硼金刚石薄膜的因素 | 第42-58页 |
| ·甲烷流量对高掺硼金刚石多晶薄膜生长的影响 | 第42-48页 |
| ·不同甲烷流量下高掺硼金刚石薄膜的形貌分析 | 第42-44页 |
| ·不同甲烷流量下高掺硼金刚石薄膜的拉曼分析 | 第44-45页 |
| ·不同甲烷流量下高掺硼金刚石薄膜的XRD分析 | 第45-47页 |
| ·甲烷流量对高掺硼金刚石薄膜电学性能的影响 | 第47-48页 |
| ·气体压强对高掺硼金刚石多晶薄膜生长的影响 | 第48-53页 |
| ·不同气压对高掺硼金刚石薄膜形貌的影响 | 第48-50页 |
| ·不同气压下高掺硼金刚石薄膜的拉曼分析 | 第50-51页 |
| ·不同气压下高掺硼金刚石薄膜的XRD分析 | 第51-53页 |
| ·偏流对高掺硼金刚石多晶薄膜生长的影响 | 第53-57页 |
| ·不同偏流对高掺硼金刚石薄膜表面形貌的影响 | 第53-55页 |
| ·不同偏流下高掺硼金刚石薄膜的拉曼分析 | 第55-56页 |
| ·不同偏流下高掺硼金刚石薄膜的XRD分析 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 结论 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
