| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-17页 |
| ·陶瓷的缺陷化学理论 | 第11-12页 |
| ·点缺陷 | 第11-12页 |
| ·点缺陷理论在氧化锌压敏陶瓷中的应用 | 第12页 |
| ·压敏电阻 | 第12-14页 |
| ·压敏电阻老化机制 | 第12-13页 |
| ·ZnO压敏陶瓷老化的改善方法 | 第13-14页 |
| ·ZnO压敏陶瓷老化的测量方法 | 第14页 |
| ·WO_3压敏陶瓷研究现状 | 第14-15页 |
| ·国外对WO_3压敏陶瓷的研究 | 第14-15页 |
| ·国内对WO_3压敏陶瓷的研究 | 第15页 |
| ·论文研究的意义、主要内容 | 第15-17页 |
| ·论文研究的意义 | 第15页 |
| ·论文的主要内容 | 第15-16页 |
| ·论文各部分内容 | 第16-17页 |
| 第2章 保温温度对WO_3压敏特性及其老化速率的影响 | 第17-29页 |
| ·实验原料和主要仪器设备 | 第17页 |
| ·实验过程 | 第17-18页 |
| ·实验结果与结论 | 第18-28页 |
| ·保温温度对陶瓷微观结构的影响 | 第18-21页 |
| ·保温温度对陶瓷电学性能的影响 | 第21-24页 |
| ·WO_3压敏特性原子缺陷模型 | 第24-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 第3章 气氛对WO_3压敏特性及其老化速率的影响 | 第29-45页 |
| ·实验过程 | 第29-30页 |
| ·实验结果与讨论 | 第30-44页 |
| ·真空烧结以及氧气热处理对陶瓷微观结构的影响 | 第30-34页 |
| ·真空烧结以及氧气热处理对陶瓷电学性能的影响 | 第34-36页 |
| ·氮气气氛烧结以及氧气热处理对陶瓷微观结构的影响 | 第36-40页 |
| ·氮气气氛烧结以及氧气热处理对陶瓷电学性能的影响 | 第40-41页 |
| ·测量气氛对陶瓷电学性能的影响 | 第41-42页 |
| ·WO_3压敏特性老化过程及其模型 | 第42-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第4章 稀土元素掺杂WO_3压敏特性及其老化速率的影响 | 第45-61页 |
| ·实验过程 | 第45页 |
| ·七氧化四铽掺杂对WO_3压敏特性及其老化速率的影响 | 第45-54页 |
| ·Tb_4O_7掺杂对陶瓷微观结构的影响 | 第45-49页 |
| ·Tb_4O_7掺杂对陶瓷压敏特性的影响 | 第49-50页 |
| ·Tb_4O_7掺杂对陶瓷老化速率的影响 | 第50-54页 |
| ·二氧化铈掺杂对WO_3压敏特性及其老化速率的影响 | 第54-60页 |
| ·CeO_2掺杂对陶瓷微观结构的影响 | 第54-56页 |
| ·CeO_2掺杂对陶瓷压敏特性的影响 | 第56-58页 |
| ·CeO_2掺杂对陶瓷老化速率的影响 | 第58-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 结论 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及科研成果 | 第68页 |
