摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第7-17页 |
·研究背景 | 第7-12页 |
·SF_6性质、历史和用途 | 第12-13页 |
·NF_3性质、历史和用途 | 第13-15页 |
·SF_6、NF_3处理现状 | 第15-16页 |
·本研究的内容和意义 | 第16-17页 |
第二章 光照缓释法降解SF_6、NF_3的过程研究 | 第17-45页 |
·实验探讨 | 第17-19页 |
·前言 | 第17页 |
·还原性自由基来源 | 第17-18页 |
·"CRR"缓释自由基机理提出 | 第18-19页 |
·实验部分 | 第19-21页 |
·实验试剂和原料气体 | 第19页 |
·反应仪器、装置和流程 | 第19-20页 |
·分析仪器 | 第20-21页 |
·实验结果与讨论 | 第21-33页 |
·"CRR"过程降解SF_6 | 第21-24页 |
·Ar气氛中SF_6降解时间曲线 | 第21-22页 |
·O_2对SF_6降解的影响 | 第22-23页 |
·H_2O对SF_6降解的影响 | 第23-24页 |
·灯管表面结焦分析 | 第24页 |
·反应产物分析 | 第24-28页 |
·气相产物的FT-IR分析 | 第24-25页 |
·天然橡胶表面的物理化学变化 | 第25-28页 |
·Ar气氛中SF_6降解途径分析 | 第28-32页 |
·天然橡胶表面产生的自由基与脱氟机理 | 第28-31页 |
·SF_6降解动力学 | 第31-32页 |
·结论 | 第32-33页 |
·缓释法降解NF_3 | 第33-45页 |
·NF_3 FT-IR标准曲线的确定 | 第33-34页 |
·NF_3不同气压下红外响应曲线 | 第34-35页 |
·NF_3的"CRR"降解 | 第35-39页 |
·Ar气氛中NF_3的降解 | 第35-37页 |
·N_2/O_2/Air/H_2O的比例对NF_3降解的影响 | 第37-39页 |
·产物分析 | 第39-41页 |
·反应机理探讨 | 第41-44页 |
·结论 | 第44-45页 |
第三章 介质阻拦放电等离子体降解NF_3、SF_6的过程研究 | 第45-65页 |
·前言 | 第45页 |
·实验部分 | 第45-47页 |
·试剂和仪器 | 第45-46页 |
·实验步骤和分析方法 | 第46-47页 |
·NF_3等离子体系讨论 | 第47-59页 |
·实验操作参数与NF_3降解率的关系 | 第47-48页 |
·外加气体对NF_3的影响 | 第48-50页 |
·产物分析 | 第50-51页 |
·机理分析探讨 | 第51-55页 |
·Ar/NF_3体系 | 第52页 |
·N_2/NF_3体系 | 第52-54页 |
·N_2/O_2/NF_3体系 | 第54页 |
·H_2O/NF_3体系 | 第54-55页 |
·NF_3/CO_2/O_2等离子体系探讨 | 第55-58页 |
·结论 | 第58-59页 |
·DBD等离子体降解SF_6 | 第59-65页 |
·不同外加气体对SF_6降解的影响 | 第59-62页 |
·放电产物分析 | 第62-64页 |
·结论 | 第64-65页 |
第四章 主要结论与后续研究建议 | 第65-67页 |
·主要结论 | 第65-66页 |
·后续研究建议 | 第66-67页 |
参考文献 | 第67-74页 |
附录 攻读硕士学位期间论文发表情况 | 第74-75页 |
致谢 | 第75-76页 |