| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-17页 |
| ·铀及其化合物光学性质的实验研究及应用 | 第7-13页 |
| ·铀及其化合物光学性质的实验研究 | 第8-11页 |
| ·铀及其化合物光学性质的应用 | 第11-13页 |
| ·在EUV领域及软X射线领域中的应用 | 第11-12页 |
| ·利用氧化铀制造半导体装置 | 第12-13页 |
| ·UO_2光学性质的理论研究现状 | 第13-16页 |
| ·本文的选题意义及主要工作 | 第16-17页 |
| 第二章 实验方法及原理 | 第17-25页 |
| ·磁控溅射法 | 第17页 |
| ·X射线衍射仪(XRD) | 第17-18页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第18页 |
| ·X射线光电子能谱仪(XPS) | 第18-19页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第19页 |
| ·反射光谱仪 | 第19-22页 |
| ·原理 | 第19-20页 |
| ·全光谱拟合法 | 第20页 |
| ·F-B色散模型 | 第20-22页 |
| ·椭偏光谱仪 | 第22-24页 |
| ·椭圆偏振技术测试原理 | 第22-23页 |
| ·椭圆偏振技术分析 | 第23-24页 |
| ·小结 | 第24-25页 |
| 第三章 UO_2薄膜的制备、表征及光学性质的分析 | 第25-39页 |
| ·薄膜的制备 | 第25页 |
| ·薄膜的表面及界面状态 | 第25-29页 |
| ·薄膜的表面形貌 | 第26-28页 |
| ·SEM结果及分析 | 第26-27页 |
| ·AFM结果及分析 | 第27-28页 |
| ·薄膜的截面图片 | 第28-29页 |
| ·薄膜的相结构 | 第29-30页 |
| ·薄膜的元素化学状态 | 第30-33页 |
| ·薄膜光学性质的测量 | 第33-38页 |
| ·反射光谱法 | 第33-35页 |
| ·椭偏光谱法 | 第35-38页 |
| ·几种厚度测试方法的分析和比较 | 第38页 |
| ·小结 | 第38-39页 |
| 第四章 密度泛函理论与计算方法 | 第39-49页 |
| ·锕系元素5f电子特性 | 第39-40页 |
| ·多电子体系的薛定谔方程 | 第40-41页 |
| ·密度泛函理论 | 第41页 |
| ·交换关联势 | 第41-43页 |
| ·能带理论 | 第43-44页 |
| ·赝势平面波方法 | 第44-45页 |
| ·固体光学性质 | 第45-48页 |
| ·基本光学常数 | 第45-46页 |
| ·光学性质的计算 | 第46-47页 |
| ·CASTEP光学性质计算影响因素 | 第47-48页 |
| ·小结 | 第48-49页 |
| 第五章 UO_2的电子结构及光学性质的第一性原理研究 | 第49-60页 |
| ·计算模型及方法 | 第49-52页 |
| ·计算模型 | 第49页 |
| ·计算方法 | 第49-50页 |
| ·结构优化 | 第50-52页 |
| ·能带结构及态密度分析 | 第52-54页 |
| ·UO_2光学性质的计算结果 | 第54-58页 |
| ·介电函数 | 第54-56页 |
| ·UO_2的反射率 | 第56-57页 |
| ·UO_2的折射率和消光系数 | 第57-58页 |
| ·UO_2的能量损失谱和吸收系数 | 第58页 |
| ·小结 | 第58-60页 |
| 第六章 结论与展望 | 第60-62页 |
| ·结论 | 第60-61页 |
| ·工作展望 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 附录 | 第66-67页 |