| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-22页 |
| 1.1 稀磁半导体的研究概况 | 第9-12页 |
| 1.1.1 稀磁半导体的研究概况 | 第9-10页 |
| 1.1.2 稀磁半导体的铁磁性起源 | 第10-12页 |
| 1.2 In_2O_3基稀磁半导体 | 第12-22页 |
| 1.2.1 In_2O_3的结构 | 第12-13页 |
| 1.2.2 In_2O_3基稀磁半导体的研究现状 | 第13-20页 |
| 1.2.3 In_2O_3基稀磁半导体目前存在的问题 | 第20-21页 |
| 1.2.4 本论文的研究目的及研究内容 | 第21-22页 |
| 第二章 样品的制备与表征方法 | 第22-29页 |
| 2.1 薄膜的制备 | 第22-24页 |
| 2.1.1 磁控溅射技术原理 | 第22页 |
| 2.1.2 磁控溅射技术的种类 | 第22-23页 |
| 2.1.3 实验设备与材料 | 第23-24页 |
| 2.1.4 实验流程 | 第24页 |
| 2.2 薄膜样品性能的表征 | 第24-28页 |
| 2.2.1 台阶仪(step profiler) | 第24页 |
| 2.2.2 X射线衍射(XRD) | 第24-25页 |
| 2.2.3 X射线光电子能谱(XPS) | 第25-26页 |
| 2.2.4 X射线吸收精细结构吸收谱(XAFS) | 第26-27页 |
| 2.2.5 电输运性能的测量 | 第27-28页 |
| 2.2.6 磁学性能的测量 | 第28页 |
| 2.3 本章小结 | 第28-29页 |
| 第三章 (In_(0.96-x)Li_xFe_(0.04))_2O_3薄膜制备、结构与磁性 | 第29-44页 |
| 3.1 引言 | 第29页 |
| 3.2 实验过程 | 第29-30页 |
| 3.3 结果与分析 | 第30-42页 |
| 3.3.2 (In_(0.9)Li_(0.06)Fe_(0.04))_2O_3薄膜的价态分析 | 第31-32页 |
| 3.3.3 (In_(0.96-x)Li_xFe_(0.04))_2O_3薄膜的局域结构 | 第32-35页 |
| 3.3.4 (In_(0.96-x)Li_xFe_(0.04))_2O_3薄膜的磁性能分析 | 第35-36页 |
| 3.3.5 (In_(0.96-x)Li_xFe_(0.04))_2O_3薄膜的输运性能分析 | 第36-39页 |
| 3.3.6 (In_(0.96-x)Li_xFe_(0.04))_2O_3薄膜磁电阻特性分析 | 第39-42页 |
| 3.4 (In_(0.96-x)Li_xFe_(0.04))_2O_3薄膜的磁性来源 | 第42-43页 |
| 3.5 本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 (In_(0.94-y)Fe_yLi_(0.06))_2O_3薄膜制备、结构与磁性 | 第44-57页 |
| 4.1 引言 | 第44页 |
| 4.2 实验过程 | 第44页 |
| 4.3 结果与分析 | 第44-55页 |
| 4.3.2 (In_(0.94-y)Fe_yLi_(0.06))_2O_3薄膜的局域结构 | 第46-49页 |
| 4.3.3 (In_(0.94-y)Fe_yLi_(0.06))_2O_3薄膜的磁性能分析 | 第49页 |
| 4.3.4 (In_(0.94-y)Fe_yLi_(0.06))_2O_3薄膜的输运性能分析 | 第49-52页 |
| 4.3.5 (In_(0.94-y)Fe_yLi_(0.06))_2O_3薄膜磁电阻特性分析 | 第52-55页 |
| 4.4 (In_(0.94-y)Fe_yLi_(0.06))_2O_3薄膜的磁性来源 | 第55-56页 |
| 4.5 本章小结 | 第56-57页 |
| 第五章 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-63页 |
| 发表论文和科研情况分析 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64页 |
