摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第1章 绪论 | 第12-40页 |
1.1 研究背景 | 第12-14页 |
1.2 面向等离子体材料 | 第14-16页 |
1.3 W基面向等离子体材料研究现状 | 第16-31页 |
1.3.1 H离子辐照及W-H相互作用 | 第17-23页 |
1.3.2 He离子辐照及W-He相互作用 | 第23-28页 |
1.3.3 中子辐照及其它相互作用 | 第28-31页 |
1.4 本章小结 | 第31-33页 |
参考文献 | 第33-40页 |
第2章 理论研究方法 | 第40-50页 |
2.1 紧束缚势模型 | 第40-44页 |
2.1.1 正交基紧束缚方法 | 第40-41页 |
2.1.2 钨的紧束缚势模型 | 第41-44页 |
2.2 电子输运计算 | 第44-47页 |
2.2.1 Kubo方法 | 第44-45页 |
2.2.2 电子热导率 | 第45-46页 |
2.2.3 电子平均自由程 | 第46-47页 |
2.3 计算软件包简介 | 第47页 |
2.3.1 VASP软件包 | 第47页 |
2.3.2 ELPA数学库 | 第47页 |
2.4 本章小结 | 第47-48页 |
参考文献 | 第48-50页 |
第3章 W的电子输运性质的理论研究 | 第50-60页 |
3.1 研究背景 | 第50页 |
3.2 结果与讨论 | 第50-57页 |
3.2.1 电子输运计算中的尺寸效应 | 第50-55页 |
3.2.2 点缺陷对电子热导率的影响 | 第55-56页 |
3.2.3 Wiedemann-Franz定律 | 第56-57页 |
3.3 本章小结 | 第57-58页 |
参考文献 | 第58-60页 |
第4章 "divide and conquer"紧束缚方法 | 第60-74页 |
4.1 研究背景 | 第60-61页 |
4.2 "divide and conquer"紧束缚方法 | 第61-65页 |
4.3 基准测试 | 第65-71页 |
4.3.1 基本物理量测试 | 第65-68页 |
4.3.2 分子动力学模拟 | 第68-70页 |
4.3.3 O(N)及并行效率 | 第70-71页 |
4.4 本章小结 | 第71-72页 |
参考文献 | 第72-74页 |
第5章 热电子激发下W的热力学性质 | 第74-92页 |
5.1 研究背景 | 第74-75页 |
5.2 计算方法 | 第75-76页 |
5.3 结果与讨论 | 第76-88页 |
5.3.1 热力学等基本物理性质 | 第76-80页 |
5.3.2 W的反常熔化 | 第80-84页 |
5.3.3 自间隙原子的扩散 | 第84-85页 |
5.3.4 中子辐照模拟 | 第85-88页 |
5.4 本章小结 | 第88-89页 |
参考文献 | 第89-92页 |
第6章 W-Be-H相互作用及H气泡的形成 | 第92-116页 |
6.1 研究背景 | 第92-93页 |
6.2 模型与方法 | 第93-94页 |
6.3 H气泡在W小角度晶界处的形成 | 第94-99页 |
6.3.1 H原子在小角度晶界处的溶解和迁移 | 第94-97页 |
6.3.2 H原子在小角度晶界处的聚集和H气泡的形成 | 第97-99页 |
6.4 W-Be-H相互作用 | 第99-110页 |
6.4.1 Be原子在W体内的溶解 | 第99-103页 |
6.4.2 Be对W体内H滞留的影响 | 第103-107页 |
6.4.3 Be原子在W(001)表面的吸附和聚集 | 第107-110页 |
6.5 本章小结 | 第110-111页 |
参考文献 | 第111-116页 |
第7章 总结与展望 | 第116-118页 |
致谢 | 第118-120页 |
在读期间发表的学术论文与取得的研究成果 | 第120-121页 |