| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 基础理论 | 第10-22页 |
| 1.1 石墨烯及石墨烯超导结的特性 | 第10-20页 |
| 1.1.1 石墨烯的能带理论-紧束缚近似方法 | 第10-11页 |
| 1.1.2 超导结的电流均匀性与Fraunhofer图案的关系 | 第11-14页 |
| 1.1.3 欠阻尼超导结和过阻尼超导结 | 第14-16页 |
| 1.1.4 Andreev 反射 | 第16页 |
| 1.1.5 扩散过程和弹道输运 | 第16-20页 |
| 1.2 超导金属的重要参数参数的提取 | 第20-22页 |
| 第2章 样品的制备和测量平台 | 第22-40页 |
| 2.1 二维材料的处理工艺 | 第22-29页 |
| 2.1.1 二维材料的获取 | 第22-23页 |
| 2.1.2 手套箱的工作原理和使用 | 第23-26页 |
| 2.1.3 二维材料的转移 | 第26-29页 |
| 2.2 微纳加工仪器及其工艺 | 第29-36页 |
| 2.2.1 紫外光刻 | 第29-31页 |
| 2.2.2 电子束曝光 | 第31-34页 |
| 2.2.3 蒸发镀膜 | 第34-35页 |
| 2.2.4 反应离子刻蚀 | 第35-36页 |
| 2.3 低温测量平台 | 第36-40页 |
| 2.3.1 ~3He制冷机 | 第36-39页 |
| 2.3.2 稀释制冷机 | 第39-40页 |
| 第3章 MoRe合金微波谐振腔 | 第40-52页 |
| 3.1 微波电路理论 | 第40-43页 |
| 3.1.1 特征阻抗 | 第40-41页 |
| 3.1.2 品质因子 | 第41-43页 |
| 3.2 MoRe合金微波谐振腔的结构的设计和仿真 | 第43-44页 |
| 3.3 MoRe合金微波谐振腔的工艺探索和制备 | 第44-48页 |
| 3.3.1 MoRe合金薄膜的制备 | 第44-45页 |
| 3.3.2 谐振腔的光刻工艺 | 第45-47页 |
| 3.3.3 谐振腔的刻蚀工艺 | 第47-48页 |
| 3.4 MoRe合金微波谐振腔的测量 | 第48-52页 |
| 3.4.1 谐振腔的测量环境和测量线路 | 第48-49页 |
| 3.4.2 谐振腔的测量结果及分析 | 第49-52页 |
| 第4章 石墨烯超导结的探索 | 第52-78页 |
| 4.1 石墨烯水平扩散超导结的制备 | 第52-55页 |
| 4.1.1 影响石墨烯与金属的接触的因素 | 第52-53页 |
| 4.1.2 石墨烯晶体管样品的制备 | 第53-54页 |
| 4.1.3 石墨烯与金属的接触电阻的提取 | 第54-55页 |
| 4.2 石墨烯水平扩散超导结的性质 | 第55-60页 |
| 4.2.1 水平扩散超导结的总体性质 | 第55-57页 |
| 4.2.2 石墨烯超导结的回滞性的原因讨论 | 第57-59页 |
| 4.2.3 石墨烯水平扩散超导结的Andreev反射谱讨论 | 第59-60页 |
| 4.3 石墨烯重要参数的提取与提高 | 第60-64页 |
| 4.3.1 石墨烯的迁移率与平均自由程的提取 | 第60-62页 |
| 4.3.2 提高迁移率的途径 | 第62-64页 |
| 4.4 石墨烯的一维接触 | 第64-71页 |
| 4.4.1 一维接触及其制作 | 第64-66页 |
| 4.4.2 h-BN刻蚀速率的测量 | 第66-68页 |
| 4.4.3 金属与石墨烯接触电阻的减少 | 第68-69页 |
| 4.4.4 形成超导结的必要条件 | 第69-70页 |
| 4.4.5 不同金属的一维接触的接触电阻 | 第70-71页 |
| 4.5 石墨烯水平弹道超导结 | 第71-78页 |
| 4.5.1 弹道输运的现象—负阻 | 第71-73页 |
| 4.5.2 弹道输运的现象—归一化电阻 | 第73-74页 |
| 4.5.3 弹道输运的现象—Fabry-Perot 干涉 | 第74-76页 |
| 4.5.4 长结与短结 | 第76-78页 |
| 第5章 总结与展望 | 第78-80页 |
| 参考文献 | 第80-86页 |
| 致谢 | 第86-87页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第87页 |
