新型二维材料硼烯、磷烯的外延生长及其性质研究
| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4页 |
| 第一章 绪论 | 第8-16页 |
| 1.1 拓扑绝缘体 | 第8-10页 |
| 1.1.1 拓扑绝缘体的概念 | 第9页 |
| 1.1.2 拓扑绝缘体的发展 | 第9-10页 |
| 1.2 石墨烯 | 第10-11页 |
| 1.2.1 石墨烯的制备方法 | 第10-11页 |
| 1.2.2 石墨烯的特性 | 第11页 |
| 1.3 硅烯 | 第11-12页 |
| 1.4 硼烯 | 第12-13页 |
| 1.5 磷烯 | 第13-15页 |
| 1.5.1 黑磷 | 第13-14页 |
| 1.5.2 蓝磷 | 第14-15页 |
| 1.6 论文主要研究内容 | 第15-16页 |
| 第二章 实验技术和原理 | 第16-28页 |
| 2.1 实验仪器简介 | 第16-18页 |
| 2.2 超高真空系统的获得与维持 | 第18-19页 |
| 2.3 分子束外延技术 | 第19-21页 |
| 2.4 样品表征技术-扫描隧道显微镜(STM) | 第21-27页 |
| 2.4.1 STM的基本原理 | 第22-26页 |
| 2.4.2 扫描隧道谱(STS) | 第26-27页 |
| 2.5 低温技术 | 第27-28页 |
| 第三章 二维硼的实验生长及其性质研究 | 第28-39页 |
| 3.1 研究背景 | 第28-29页 |
| 3.2 AG(111)表面硼膜的生长 | 第29-31页 |
| 3.3 单层硼膜的结构分析 | 第31-37页 |
| 3.4 单层硼膜的电子性质研究 | 第37-38页 |
| 3.5 本章小结与展望 | 第38-39页 |
| 第四章 二维磷的实验生长及其性质研究 | 第39-47页 |
| 4.1 研究背景 | 第39-40页 |
| 4.2 单层磷膜的外延生长 | 第40-43页 |
| 4.3 单层磷膜的结构分析及电子性质研究 | 第43-46页 |
| 4.4 本章小结与展望 | 第46-47页 |
| 第五章 论文总结 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-54页 |
| 攻读硕士学位期间完成的科研成果 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55页 |
