| 中文摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-15页 |
| 1.1 论文研究的目的与意义 | 第8-9页 |
| 1.2 论文研究的现状及发展状况 | 第9-12页 |
| 1.2.1 国外研究现状 | 第9-11页 |
| 1.2.2 国内研究现状 | 第11-12页 |
| 1.3 亚像素分析技术的发展状况 | 第12-13页 |
| 1.4 本论文研究的主要内容 | 第13-15页 |
| 第2章 折射率测量的方法与原理 | 第15-24页 |
| 2.1 引言 | 第15页 |
| 2.2 基本原理 | 第15-20页 |
| 2.2.1 V棱镜法测量 | 第15-17页 |
| 2.2.2 最小偏向角法测量 | 第17页 |
| 2.2.3 自准直法测量 | 第17-18页 |
| 2.2.4 任意偏折法测量 | 第18-20页 |
| 2.3 测量方法比较与选取 | 第20-23页 |
| 2.3.1 方法比较 | 第20页 |
| 2.3.2 方法评定 | 第20-23页 |
| 2.4 本章小结 | 第23-24页 |
| 第3章 测量系统的方案设计 | 第24-40页 |
| 3.1 引言 | 第24页 |
| 3.2 系统指标 | 第24页 |
| 3.3 系统组成与工作原理 | 第24-38页 |
| 3.3.1 光学系统 | 第26-30页 |
| 3.3.2 精密测角系统 | 第30-33页 |
| 3.3.3 数据采集系统 | 第33-38页 |
| 3.3.4 图像处理系统 | 第38页 |
| 3.4 本章小结 | 第38-40页 |
| 第4章 采用亚像素分析提高锗材料折射率测量精度 | 第40-62页 |
| 4.1 引言 | 第40页 |
| 4.2 亚像素分析技术研究 | 第40-57页 |
| 4.2.1 亚像素分析算法 | 第40页 |
| 4.2.2 亚像素分析算法原理 | 第40-42页 |
| 4.2.3 典型像素级边缘检测算法 | 第42-45页 |
| 4.2.4 典型亚像素边缘检测算法 | 第45-49页 |
| 4.2.5 改进的亚像素分析算法 | 第49-57页 |
| 4.3 基于亚像素分析的锗材料折射率测量实验结果与分析 | 第57-61页 |
| 4.4 本章小结 | 第61-62页 |
| 结论 | 第62-63页 |
| 本文所做工作 | 第62页 |
| 下一步工作计划 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 附录 | 第69-87页 |
| 致谢 | 第87页 |