摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第10-18页 |
1.1 课题研究背景及意义 | 第10-11页 |
1.2 电熔镁炉电极电流控制方法及现状 | 第11页 |
1.3 电熔镁炉熔炼过程电流回路控制技术 | 第11-12页 |
1.4 国内外研究现状 | 第12-15页 |
1.5 本文主要研究工作与内容安排 | 第15-18页 |
第2章 电熔镁炉熔炼电流控制优化问题描述 | 第18-38页 |
2.1 电熔镁炉熔炼过程和电极电流系统介绍 | 第18-23页 |
2.1.1 电熔镁炉熔炼原理 | 第18-20页 |
2.1.2 电熔镁炉电极电流系统 | 第20-21页 |
2.1.3 电熔镁炉熔炼过程的控制目标 | 第21-22页 |
2.1.4 电熔镁炉电极控制策略 | 第22-23页 |
2.2 电熔镁炉电极电流问题描述 | 第23-26页 |
2.2.1 电熔镁炉电极电流控制现状 | 第23-24页 |
2.2.2 电熔镁炉电极电流控制存在的问题 | 第24-26页 |
2.3 电熔镁炉电极调节系统的模型 | 第26-37页 |
2.3.1 预备知识 | 第26-27页 |
2.3.2 电熔镁炉电极调节系统控制简化模型 | 第27-37页 |
2.4 本章小节 | 第37-38页 |
第3章 电熔镁炉熔炼电流带有边界约束的最优跟踪控制 | 第38-54页 |
3.1 引言 | 第38页 |
3.2 预备知识 | 第38-40页 |
3.2.1 TEo积分约束转换法 | 第38-39页 |
3.2.2 局部光滑法 | 第39-40页 |
3.3 优化问题描述 | 第40-42页 |
3.4 非线性规划算法 | 第42-51页 |
3.4.1 非线性规划的基本方法 | 第42-43页 |
3.4.2 序列二次规划法 | 第43-51页 |
3.5 仿真结果及分析 | 第51-53页 |
3.6 本章小结 | 第53-54页 |
第4章 具有输入时滞的电熔镁炉熔炼电流最优跟踪控制 | 第54-70页 |
4.1 引言 | 第54页 |
4.2 预备知识 | 第54-57页 |
4.2.1 跟踪问题与状态调节器问题的转换方法 | 第54-56页 |
4.2.2 有输入时滞的线性系统和无时滞线性系统之间的转化 | 第56-57页 |
4.3 优化问题描述 | 第57-59页 |
4.4 最优控制算法 | 第59-65页 |
4.4.1 线性最优状态调节器 | 第59-61页 |
4.4.2 输入带有时滞的线性最优状态调节器 | 第61-64页 |
4.4.3 最优控制律设计 | 第64-65页 |
4.5 仿真结果及其分析 | 第65-69页 |
4.6 本章小节 | 第69-70页 |
第5章 结论与展望 | 第70-72页 |
5.1 全文总结 | 第70-71页 |
5.2 展望 | 第71-72页 |
参考文献 | 第72-78页 |
致谢 | 第78-80页 |
攻读硕士学位期间的主要工作 | 第80页 |