基于纳米孔测序的磁镊微控系统设计与制造
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-15页 |
| 1.1 研究背景 | 第9-10页 |
| 1.2 研究现状 | 第10-13页 |
| 1.2.1 纳米孔芯片研究现状 | 第10-11页 |
| 1.2.2 磁镊技术研究现状 | 第11-12页 |
| 1.2.3 动力学校对原理对测序技术的意义 | 第12-13页 |
| 1.3 本文研究内容及意义 | 第13页 |
| 1.4 论文组织结构 | 第13-15页 |
| 第二章 纳米孔芯片多层薄膜结构及参数设计 | 第15-21页 |
| 2.1 芯片结构确定 | 第15-16页 |
| 2.2 薄膜厚度设计及应力计算 | 第16-20页 |
| 2.2.1 外应力 | 第16-19页 |
| 2.2.2 内应力 | 第19-20页 |
| 2.3 本章小结 | 第20-21页 |
| 第三章 纳米孔传感器制造工艺流程 | 第21-32页 |
| 3.1 MEMS简介 | 第21页 |
| 3.2 芯片生产工艺流程 | 第21-27页 |
| 3.2.1 五层薄膜沉积 | 第22-23页 |
| 3.2.2 芯片工艺版图设计 | 第23-24页 |
| 3.2.3 释放窗口制造 | 第24-25页 |
| 3.2.4 湿法腐蚀释放工艺 | 第25-27页 |
| 3.3 纳米孔制造 | 第27-31页 |
| 3.3.1 电子束刻蚀 | 第27-28页 |
| 3.3.2 离子束刻蚀 | 第28-31页 |
| 3.4 本章小结 | 第31-32页 |
| 第四章 磁镊微控系统平台搭建 | 第32-44页 |
| 4.1 磁镊原理 | 第34-36页 |
| 4.1.1 磁镊原理理论 | 第34-35页 |
| 4.1.2 磁路方案选择 | 第35-36页 |
| 4.2 磁镊微控系统平台搭建 | 第36-43页 |
| 4.2.1 磁路系统设计 | 第37-40页 |
| 4.2.2 实验台搭建 | 第40-41页 |
| 4.2.3 屏蔽笼和防震台 | 第41-42页 |
| 4.2.4 显微和照相系统 | 第42-43页 |
| 4.3 本章总结 | 第43-44页 |
| 第五章 磁镊实验结果及分析 | 第44-58页 |
| 5.1 磁镊验证实验 | 第44-48页 |
| 5.1.1 单磁针吸引磁珠 | 第44-46页 |
| 5.1.2 双磁针吸引磁珠 | 第46-48页 |
| 5.2 磁镊系统有限元分析 | 第48-52页 |
| 5.2.1 电磁场有限元理论基础 | 第48页 |
| 5.2.2 电磁场有限元分析 | 第48-49页 |
| 5.2.3 模拟结果与分析 | 第49-52页 |
| 5.3 磁镊环境下DNA过孔实验测试 | 第52-57页 |
| 5.3.1 芯片与液池 | 第52-54页 |
| 5.3.2 样品准备与实验 | 第54-55页 |
| 5.3.3 实验结果分析 | 第55-57页 |
| 5.4 本章小结 | 第57-58页 |
| 第六章 总结与展望 | 第58-60页 |
| 6.1 总结 | 第58页 |
| 6.2 展望 | 第58-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-64页 |
| 作者简介 | 第64页 |
