| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 注释表 | 第12-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-24页 |
| 1.1 研究背景 | 第13-16页 |
| 1.2 国内外研究概况 | 第16-21页 |
| 1.2.1 MHD效应研究现状 | 第17-19页 |
| 1.2.2 通道腐蚀研究现状 | 第19-21页 |
| 1.3 MHD效应、传热及腐蚀数值研究存在的困难 | 第21-22页 |
| 1.4 本文的研究工作 | 第22页 |
| 1.5 各章安排 | 第22-24页 |
| 第二章 物理和数学模型的建立 | 第24-33页 |
| 2.1 磁流体流动理论分析 | 第24-25页 |
| 2.1.1 磁流体动力学基本方程 | 第24页 |
| 2.1.2 电磁场方程组 | 第24-25页 |
| 2.2 边界条件 | 第25-26页 |
| 2.3 磁流体流动程序验证 | 第26-29页 |
| 2.3.1 ShercliffCase算例 | 第27-28页 |
| 2.3.2 HuntCase算例 | 第28-29页 |
| 2.4 DCLL通道程序验证 | 第29-32页 |
| 2.4.1 通道模型 | 第29-30页 |
| 2.4.2 程序验证 | 第30-32页 |
| 2.5 本章小结 | 第32-33页 |
| 第三章 DCLL通道内流动特征及MHD效应和传热特性分析 | 第33-53页 |
| 3.1 网格独立性验证 | 第33页 |
| 3.2 物性参数计算 | 第33-34页 |
| 3.3 边界条件设置 | 第34页 |
| 3.4 不同参数对流场的影响 | 第34-42页 |
| 3.4.1 通道涂层对流场的影响 | 第34-36页 |
| 3.4.2 通道速度对流场的影响 | 第36-38页 |
| 3.4.3 通道磁场对流场的影响 | 第38-39页 |
| 3.4.4 通道插件对流场的影响 | 第39-40页 |
| 3.4.5 通道Ra数对流场的影响 | 第40-42页 |
| 3.5 MHD效应及传热特性 | 第42-51页 |
| 3.5.1 DCLL通道压降结果与分析 | 第43-45页 |
| 3.5.2 DCLL通道传热结果与分析 | 第45-48页 |
| 3.5.3 DCLL通道Ra数的影响 | 第48-50页 |
| 3.5.4 DCLL通道传热准则方程 | 第50-51页 |
| 3.6 本章小结 | 第51-53页 |
| 第四章 DCLL通道的腐蚀行为研究 | 第53-68页 |
| 4.1 网格独立性验证 | 第53页 |
| 4.2 通道内流动特征与温度分布 | 第53-56页 |
| 4.2.1 通道内流动特征 | 第54-55页 |
| 4.2.2 通道内温度分布 | 第55-56页 |
| 4.3 各种因素对通道腐蚀的影响 | 第56-66页 |
| 4.3.1 速度及涂层对通道腐蚀的影响 | 第58-61页 |
| 4.3.2 磁场强度及涂层对通道腐蚀的影响 | 第61-63页 |
| 4.3.3 中子热源及涂层对通道腐蚀的影响 | 第63-64页 |
| 4.3.4 插件及涂层对通道腐蚀的影响 | 第64-66页 |
| 4.4 本章小结 | 第66-68页 |
| 第五章 总结与展望 | 第68-70页 |
| 5.1 主要结论 | 第68-69页 |
| 5.2 研究展望 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第76页 |